铝合金微弧氧化工艺研究与机理分析
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
·微弧氧化技术的概念 | 第10页 |
·微弧氧化技术的历史 | 第10-11页 |
·微弧氧化技术的工艺 | 第11-13页 |
·酸性微弧氧化电解液氧化法 | 第12页 |
·碱性微弧氧化电解液氧化法 | 第12-13页 |
·微弧氧化技术的特点 | 第13-14页 |
·微弧氧化技术的应用 | 第14-15页 |
·微弧氧化陶瓷层的应用领域 | 第14-15页 |
·微弧氧化在铝合金方面的应用 | 第15页 |
·微弧氧化陶瓷层 | 第15-17页 |
·微弧氧化陶瓷层的断面形貌 | 第15-16页 |
·微弧氧化陶瓷层的表面形貌 | 第16页 |
·微弧氧化陶瓷层的相组成 | 第16-17页 |
·微弧氧化技术的影响因素 | 第17-22页 |
·铝合金基体成分对氧化膜性能的影响 | 第18-19页 |
·电解液组成对氧化膜性能的影响 | 第19页 |
·氧化时间对氧化膜性能的影响 | 第19-20页 |
·电流密度对氧化膜性能的影响 | 第20-21页 |
·脉冲频率对氧化膜性能的影响 | 第21页 |
·电源模式对氧化膜性能的影响 | 第21-22页 |
·电解液温度对氧化膜性能的影响 | 第22页 |
·微弧氧化宏观过程与技术机理 | 第22-24页 |
·微弧氧化宏观过程 | 第22-23页 |
·微弧氧化技术机理 | 第23-24页 |
·本课题的研究内容 | 第24-25页 |
第二章 试验条件与实验方案 | 第25-33页 |
·微弧氧化基体材料 | 第25-26页 |
·微弧氧化设备 | 第26-27页 |
·微弧氧化工艺流程 | 第27-28页 |
·试样前处理 | 第27页 |
·微弧氧化处理 | 第27-28页 |
·试样后处理 | 第28页 |
·实验方案 | 第28-33页 |
·微弧氧化电解液配方的筛选试验 | 第29页 |
·微弧氧化工艺参数试验 | 第29页 |
·微弧氧化陶瓷层形貌、成分与相组成的测试与分析 | 第29-30页 |
·磨损试验 | 第30-31页 |
·微弧氧化技术机理的探讨 | 第31-33页 |
第三章 电解液配方的筛选与工艺参数的优化 | 第33-44页 |
·电解液体系的筛选 | 第33-38页 |
·电解液组分的确定 | 第33页 |
·电解液配方的正交试验 | 第33-36页 |
·电解液配方的单因素试验 | 第36-38页 |
·微弧氧化时间的确定 | 第38-39页 |
·电参数的优化 | 第39-42页 |
·脉冲频率 | 第39-40页 |
·正向电压、负向电压 | 第40-42页 |
·本章总结 | 第42-44页 |
第四章 微弧氧化陶瓷层的形貌、成分、结构和性能 | 第44-60页 |
·陶瓷层的断面形貌 | 第44-45页 |
·陶瓷层的表面形貌 | 第45-50页 |
·陶瓷层生长过程中的形貌变化 | 第45-46页 |
·电解液配方对陶瓷层表面形貌的影响 | 第46-47页 |
·脉冲频率对陶瓷层表面形貌的影响 | 第47-48页 |
·负向电压对陶瓷层表面形貌的影响 | 第48-50页 |
·微弧氧化陶瓷层成分测试 | 第50-51页 |
·微弧氧化陶瓷层的相组成 | 第51-54页 |
·陶瓷层XRD 测试条件 | 第51页 |
·陶瓷层的主要相组成 | 第51-52页 |
·正向电压、负向电压对各相质量分数的影响 | 第52-54页 |
·陶瓷层的耐磨损性能 | 第54-57页 |
·陶瓷层的完整性与保护性 | 第57-58页 |
·微弧氧化陶瓷层的完整性 | 第57-58页 |
·微弧氧化陶瓷层的保护性 | 第58页 |
·本章总结 | 第58-60页 |
第五章 铝合金微弧氧化的过程与机理 | 第60-72页 |
·微弧氧化陶瓷层生长的条件 | 第60-65页 |
·陶瓷层形成的热力学条件 | 第60-61页 |
·陶瓷层生长的动力学过程 | 第61-62页 |
·微弧氧化陶瓷层与电量和电能的关系 | 第62-65页 |
·铝合金微弧氧化的机理探讨 | 第65-70页 |
·微弧氧化陶瓷层的形成过程 | 第65-67页 |
·电解液各组分浓度对陶瓷层生长的影响 | 第67-68页 |
·电参数对陶瓷层生长的影响 | 第68-70页 |
·本章总结 | 第70-72页 |
第六章 微弧氧化研究的展望 | 第72-73页 |
第七章 结论 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
在读期间取得的科研成果 | 第79-80页 |
个人简介 | 第80页 |