| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·课题研究的背景 | 第9-12页 |
| ·TiO_2光催化技术 | 第9-10页 |
| ·交流阻抗技术的发展 | 第10-12页 |
| ·TiO_2半导体光催化剂 | 第12-17页 |
| ·TiO_2的结构特征 | 第12-15页 |
| ·光催化作用原理 | 第15-17页 |
| ·TiO_2光催化剂在环境污染治理中的应用 | 第17-20页 |
| ·液相污染物的净化处理 | 第17-18页 |
| ·气相污染物的净化处理 | 第18-19页 |
| ·抗菌防蚀功能材料 | 第19页 |
| ·防雾与自清洁功能材料 | 第19-20页 |
| ·光催化技术的特点与优势 | 第20-21页 |
| ·半导体光催化特性的表征 | 第21-22页 |
| ·本论文的研究意义及主要内容 | 第22-25页 |
| 第二章 TiO_2光电催化体系交流阻抗谱的测量实验 | 第25-45页 |
| ·交流阻抗法的简介 | 第25页 |
| ·交流阻抗技术的基本原理 | 第25-26页 |
| ·阻抗的概念 | 第26页 |
| ·交流阻抗的复数表示 | 第26页 |
| ·实验部分 | 第26-28页 |
| ·实验仪器及药品 | 第26-27页 |
| ·光电催化反应装置 | 第27-28页 |
| ·固定化光催化剂的制备 | 第28-31页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备 | 第28页 |
| ·TiO_2薄膜光催化剂的制备 | 第28-29页 |
| ·TiO_2溶胶的形成机理 | 第29-31页 |
| ·TiO_2薄膜表面物性分析 | 第31-34页 |
| ·TiO_2薄膜的显微形貌分析 | 第31页 |
| ·紫外可见反射光谱分析 | 第31-32页 |
| ·XRD图谱分析 | 第32-34页 |
| ·光催化降解甲基橙的活性测量 | 第34-36页 |
| ·光催化与光电催化甲基橙的比较 | 第34-35页 |
| ·光电催化不同偏压下催化性能的比较 | 第35-36页 |
| ·甲基橙光电催化体系 | 第36-42页 |
| ·交流阻抗图谱与光催化降解甲基橙的联系 | 第36-37页 |
| ·甲基橙体系的交流阻抗谱图 | 第37-38页 |
| ·光照不同阳极偏压下TiO_2 /Al_2O_3薄膜的交流阻抗谱 | 第38-40页 |
| ·不同光强下的TiO_2薄膜交流阻抗谱 | 第40-41页 |
| ·交流阻抗谱衡量不同方法制备的TiO_2薄膜的光催化特性 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-45页 |
| 第三章 等效电路模型与拟合 | 第45-53页 |
| ·电解池等效电路 | 第45-47页 |
| ·TiO_2半导体催化剂等效电路模型 | 第47-49页 |
| ·不存在表面态时的等效电路模型 | 第47-48页 |
| ·存在表面态时的等效电路模型 | 第48-49页 |
| ·等效电路拟合 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 能带结构特征参数计算 | 第53-63页 |
| ·“半导体/溶液”界面理论分析 | 第53-57页 |
| ·暗态下“半导体/溶液”界面 | 第53-55页 |
| ·表面态与能级钳定现象 | 第55-56页 |
| ·光照下的“半导体/溶液”界面 | 第56-57页 |
| ·能带结构参数计算 | 第57-59页 |
| ·能带结构特征参数与阻抗图谱的关系 | 第59-60页 |
| ·能带结构特征参数与TiO_2半导体光催化剂的关系 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 硕士在读期间的研究成果 | 第69-70页 |
| 附录 | 第70-71页 |
