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材料光谱发射率测量装置的研究

中文摘要第1-3页
ABSTRACT第3-6页
第一章 绪论第6-8页
   ·研究背景与意义第6页
   ·国内外研究现状第6-7页
   ·研究内容第7-8页
第二章 发射率测量原理与方法概述第8-11页
   ·发射率的概念与定义第8-9页
   ·发射率测量方法第9-11页
第三章 光谱发射率测量标准装置第11-19页
   ·装置测量原理第11-13页
   ·整体装置介绍第13页
   ·辐射源系统第13-15页
   ·光学系统第15-16页
   ·探测器第16-17页
   ·电测系统第17页
   ·数据采集系统第17-19页
第四章 光谱发射率测量标准装置性能实验第19-31页
   ·样品测温及样品加热器第19-20页
   ·黑体辐射源第20-24页
   ·单色仪第24-26页
   ·辐射谱测量系统线性度验证第26-28页
   ·截止滤光片影响第28-29页
   ·杂散辐射影响第29-31页
第五章 材料光谱发射率测量第31-41页
   ·样品的制备第31页
   ·比较测量方法第31-32页
   ·氧化不锈钢样品法向光谱发射率第32-38页
   ·氧化不锈钢样品定向光谱发射率第38-39页
   ·样品均匀性影响第39-41页
第六章 不确定度评定第41-48页
   ·数学模型第41-44页
   ·测量不确定度评定第44-48页
第七章 结论与建议第48-50页
   ·结论第48-49页
   ·进一步研究工作建议第49-50页
符号表第50-52页
参考文献第52-54页
发表论文和科研情况说明第54-55页
致谢第55页

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