ZnO:Cu薄膜的制备及其光、电性能研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-17页 |
·引言 | 第9-10页 |
·ZnO 的结构与性质 | 第10-11页 |
·ZnO 的晶体结构 | 第10页 |
·ZnO 的基本性质 | 第10-11页 |
·ZnO 的应用 | 第11-14页 |
·ZnO 透明导电膜 | 第11-12页 |
·ZnO 声表面波器件 | 第12页 |
·ZnO 基紫外探测器 | 第12-14页 |
·ZnO:Cu 薄膜的性质与研究现状 | 第14-15页 |
·本文选题依据和主要工作 | 第15-17页 |
第二章 ZnO:Cu 薄膜的制备方法和表征 | 第17-24页 |
·ZnO 薄膜的制备和表征 | 第17-21页 |
·溶胶凝胶法 | 第17页 |
·化学气相沉积 | 第17-18页 |
·金属有机化学气相沉积 | 第18页 |
·脉冲激光沉积 | 第18-19页 |
·分子束外延 | 第19页 |
·磁控溅射 | 第19-21页 |
·ZnO 薄膜的表征 | 第21-24页 |
·X 射线衍射 | 第21-22页 |
·扫描电子显微镜 | 第22-24页 |
第三章 磁控溅射制备ZnO:Cu 薄膜与特性分析 | 第24-50页 |
·靶材的制备 | 第24-25页 |
·薄膜的制备 | 第25-26页 |
·衬底的处理 | 第25-26页 |
·薄膜样品的制备 | 第26页 |
·衬底温度对ZnO:Cu 薄膜特性的影响 | 第26-34页 |
·衬底温度对薄膜微结构的影响研究 | 第27-31页 |
·光学特性分析 | 第31-33页 |
·电学特性分析 | 第33-34页 |
·溅射功率对ZnO:Cu 薄膜特性的影响 | 第34-39页 |
·溅射功率对薄膜微结构的影响研究 | 第34-38页 |
·电学特性分析 | 第38-39页 |
·氧氩比对ZnO:Cu 薄膜特性的影响 | 第39-44页 |
·氧氩比对薄膜微结构的影响研究 | 第39-41页 |
·光学特性分析 | 第41-43页 |
·电学特性分析 | 第43-44页 |
·退火温度对ZnO:Cu 薄膜特性的影响 | 第44-49页 |
·退火温度对薄膜微结构影响研究 | 第44-47页 |
·光学特性分析 | 第47-48页 |
·电学特性分析 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第四章 ZnO:Cu 薄膜应用初探 | 第50-59页 |
·紫外探测器 | 第50-55页 |
·紫外探测原理 | 第50-51页 |
·探测器制备及I-V 特性分析 | 第51-55页 |
·谐振型声表面波温度传感器 | 第55-59页 |
·声表面波温度传感器原理 | 第55-56页 |
·谐振型声表面波温度传感器的制备与测试 | 第56-59页 |
第五章 结论 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-65页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第65-66页 |