| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 课题的内容和意义 | 第10-12页 |
| 1.2 论文的结构 | 第12-15页 |
| 第二章 文献综述 | 第15-31页 |
| 2.1 透明导电薄膜概况 | 第15-16页 |
| 2.2 各类透明导电薄膜材料 | 第16-18页 |
| 2.3 铜纳米线概述 | 第18-29页 |
| 2.3.1 铜纳米线制备方法 | 第19-22页 |
| 2.3.2 铜纳米线透明导电薄膜制备方法 | 第22-25页 |
| 2.3.3 铜纳米线研究现况 | 第25-29页 |
| 2.4 本文研究内容 | 第29-31页 |
| 2.4.1 本文研究的目的及意义 | 第29页 |
| 2.4.2 本文研究的内容 | 第29-31页 |
| 第三章 实验部分 | 第31-35页 |
| 3.1 实验方案 | 第31页 |
| 3.2 研究方法 | 第31-35页 |
| 3.2.1 实验仪器 | 第32页 |
| 3.2.2 测试方法 | 第32-35页 |
| 第四章 铜纳米线的制备及其形貌控制 | 第35-45页 |
| 4.1 实验部分 | 第35-37页 |
| 4.1.1 铜纳米线的合成 | 第35-36页 |
| 4.1.2 表征测试 | 第36-37页 |
| 4.2 探究对铜纳米线成分、形貌、产率的影响因素 | 第37-43页 |
| 4.2.1 不同铜源比例对铜纳米线成分、形貌与结构表征影响的探究 | 第37-40页 |
| 4.2.2 探究还原剂对铜纳米线形貌的影响 | 第40-41页 |
| 4.2.3 探究不同铜源比例对铜纳米线形貌的影响 | 第41-42页 |
| 4.2.4 探究不同铜源比例对铜纳米线反应速率的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.5 探究不同铜源比例对铜纳米线产率的影响 | 第43页 |
| 4.3 硝酸铜的作用机理及本章小结 | 第43-45页 |
| 4.3.1 硝酸铜的作用机理 | 第43-44页 |
| 4.3.2 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 铜纳米线墨水的制备及其性能研究 | 第45-52页 |
| 5.1 实验部分 | 第45-46页 |
| 5.1.1 铜纳米线墨水的配制 | 第45-46页 |
| 5.1.2 铜纳米线墨水的沉降实验 | 第46页 |
| 5.2 墨水稳定性因素的探究 | 第46-51页 |
| 5.2.1 探究HPC与EC的对墨水稳定性影响的差异 | 第46-49页 |
| 5.2.2 探究聚乙烯吡咯烷酮含量对墨水稳定性的影响 | 第49-50页 |
| 5.2.3 探究乙酸乙酯对墨水稳定性的影响 | 第50-51页 |
| 5.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 透明导电薄膜的制备及光电性能研究 | 第52-58页 |
| 6.1 实验部分 | 第52-53页 |
| 6.1.1 透明导电薄膜的制备及后处理 | 第52-53页 |
| 6.1.2 表征测试 | 第53页 |
| 6.1.2.1 紫外-可见光谱透过率测试 | 第53页 |
| 6.1.2.2 四探针测试 | 第53页 |
| 6.2 探究影响透明导电薄膜光电性能的因素 | 第53-57页 |
| 6.2.1 薄膜的透光性能 | 第53-55页 |
| 6.2.2 薄膜的导电性能 | 第55-57页 |
| 6.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 第七章 总结 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 个人简历 | 第66-67页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第67页 |
