多轴电纺直写系统开发与实验研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| 1.1 图案化微纳结构及其制造方法 | 第13-18页 |
| 1.1.1 微转印法 | 第14页 |
| 1.1.2 微模塑法 | 第14-15页 |
| 1.1.3 微细铣削法 | 第15-17页 |
| 1.1.4 纳米压印法 | 第17-18页 |
| 1.2 图案化微纳喷印技术 | 第18-22页 |
| 1.2.1 微纳喷印技术 | 第18-19页 |
| 1.2.2 电液动力耦合喷印技术 | 第19-21页 |
| 1.2.3 电纺直写技术 | 第21-22页 |
| 1.3 电纺直写技术的应用 | 第22-24页 |
| 1.3.1 组织工程 | 第22-23页 |
| 1.3.2 微机电系统 | 第23页 |
| 1.3.3 新型材料 | 第23-24页 |
| 1.4 电纺直写技术喷射控制 | 第24-29页 |
| 1.4.1 电纺直写行为表现 | 第24-26页 |
| 1.4.2 直写纤维精确沉积控制手段 | 第26-29页 |
| 1.5 问题提出及主要研究工作 | 第29-33页 |
| 1.5.1 问题提出 | 第29页 |
| 1.5.2 研究目标 | 第29-30页 |
| 1.5.3 研究内容 | 第30-33页 |
| 第二章 电纺直写特征参量分析 | 第33-47页 |
| 2.1 电纺直写电流特性分析 | 第33-37页 |
| 2.1.1 电纺直写电流 | 第33-34页 |
| 2.1.2 电纺直写电流与纤维沉积形貌 | 第34-36页 |
| 2.1.3 电纺直写电流控制 | 第36-37页 |
| 2.2 电纺直写射流特性分析 | 第37-42页 |
| 2.2.1 电纺直写射流模式 | 第37-38页 |
| 2.2.2 射流模式与纤维沉积形貌 | 第38-39页 |
| 2.2.3 电纺直写射流模式控制 | 第39-42页 |
| 2.3 电纺直写纤维沉积规律分析 | 第42-46页 |
| 2.3.1 平台运动对纤维沉积的影响 | 第42-45页 |
| 2.3.2 电纺直写平台运动控制 | 第45-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 多轴电纺直写控制系统实现 | 第47-69页 |
| 3.1 电纺直写控制系统总体要求 | 第47-48页 |
| 3.2 多轴电纺直写硬件系统搭建 | 第48-53页 |
| 3.2.1 系统硬件介绍 | 第48-50页 |
| 3.2.2 电纺直写运动平台搭建与调试 | 第50-53页 |
| 3.3 综合控制软件编写 | 第53-67页 |
| 3.3.1 控制软件界面 | 第54-58页 |
| 3.3.2 系统设备通讯控制 | 第58-59页 |
| 3.3.3 射流模式获取与处理 | 第59-63页 |
| 3.3.4 软件反馈控制的实现 | 第63-67页 |
| 3.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 第四章 基于闭环控制系统的电纺直写图案化沉积实验 | 第69-81页 |
| 4.1 闭环控制系统下的图案化沉积 | 第69-73页 |
| 4.1.1 实验材料 | 第69页 |
| 4.1.2 闭环控制下的纤维沉积效果 | 第69-73页 |
| 4.2 电纺直写参量的相互作用 | 第73-76页 |
| 4.2.1 控制参量对直写效果的综合影响 | 第73-75页 |
| 4.2.2 直写电流与图案化沉积精度 | 第75-76页 |
| 4.3 基于电纺直写控制系统的编码器图案直写 | 第76-79页 |
| 4.3.1 带状编码器图案直写 | 第76-78页 |
| 4.3.2 环状编码器图案直写 | 第78-79页 |
| 4.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 第五章 总结与展望 | 第81-85页 |
| 5.1 研究总结 | 第81-82页 |
| 5.2 工作展望 | 第82-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
