摘要 | 第13-15页 |
Abstract | 第15-17页 |
第一章 绪论 | 第18-47页 |
1.1 引言 | 第18-19页 |
1.2 费托合成技术简介 | 第19-20页 |
1.3 费托合成中的反应 | 第20页 |
1.4 费托合成反应机理 | 第20-24页 |
1.4.1 表面碳化物机理 | 第21页 |
1.4.2 烯醇中间体缩聚机理 | 第21-22页 |
1.4.3 CO插入机理 | 第22-23页 |
1.4.4 碳烯插入机理 | 第23-24页 |
1.5 费托合成产物选择性 | 第24-27页 |
1.5.1 费托合成产物分布 | 第24-27页 |
1.5.2 反应条件对于产物选择性的影响 | 第27页 |
1.6 费托合成催化剂 | 第27-34页 |
1.6.1 活性金属的种类 | 第27-29页 |
1.6.2 活性相组分化学状态的影响 | 第29-30页 |
1.6.3 活性相粒径 | 第30页 |
1.6.4 载体效应 | 第30-32页 |
1.6.5 助剂 | 第32-34页 |
1.6.5.1 贵金属助剂 | 第32页 |
1.6.5.2 稀土金属氧化物助剂 | 第32-33页 |
1.6.5.3 其他氧化物助剂 | 第33-34页 |
1.7 有序介孔氧化铝简介 | 第34-35页 |
1.8 本文的研究思路与主要研究内容 | 第35-37页 |
参考文献 | 第37-47页 |
第二章 实验部分 | 第47-57页 |
2.1 主要仪器和试剂 | 第47-48页 |
2.1.1 实验中使用的试剂 | 第47-48页 |
2.1.2 实验中使用的仪器 | 第48页 |
2.2 催化剂反应性能评价和计算方法 | 第48-51页 |
2.2.1 费托合成催化剂的反应性能评价 | 第48-50页 |
2.2.2 费托合成反应催化剂性能计算方法 | 第50-51页 |
2.3 催化剂的表征方法 | 第51-56页 |
2.3.1 广角X射线衍射(XRD) | 第51-52页 |
2.3.2 小角X射线衍射(SAXRD) | 第52页 |
2.3.3 氮气物理吸附 | 第52页 |
2.3.4 程序升温还原(H2-TPR) | 第52-53页 |
2.3.5 透射电镜(TEM) | 第53页 |
2.3.6 傅立叶红外光谱(FT-IR) | 第53-54页 |
2.3.7 CO化学吸附 | 第54页 |
2.3.8 X-光电子能谱(XPS) | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-57页 |
第三章 有序介孔氧化铝负载钴催化剂的制备、表征和费托反应研究 | 第57-80页 |
3.1 引言 | 第57-58页 |
3.2 催化剂的制备 | 第58-60页 |
3.2.1 介孔氧化铝的合成 | 第58-59页 |
3.2.2 钴催化剂的制备 | 第59-60页 |
3.3 Co/OMA催化剂F-T反应性能 | 第60-63页 |
3.3.1 浸渍溶液对Co/OMA催化剂F-T反应性能的影响 | 第60页 |
3.3.2 Co负载量对Co/OMA催化剂F-T反应性能的影响 | 第60-61页 |
3.3.3 载体焙烧温度对Co/OMA催化剂F-T反应性能的影响 | 第61-62页 |
3.3.4 反应条件对Co/OMA催化剂F-T反应性能的影响 | 第62-63页 |
3.4 Co/OMA催化剂的表征 | 第63-75页 |
3.4.1 浸渍液对Co/OMA催化剂结构和性质的影响 | 第63-70页 |
3.4.1.1 XRD表征 | 第63-66页 |
3.4.1.2 N_2物理吸附 | 第66-67页 |
3.4.1.3 H_2-TPR表征 | 第67-68页 |
3.4.1.4 CO化学吸附 | 第68-69页 |
3.4.1.5 TEM表征 | 第69-70页 |
3.4.2 载体焙烧温度对Co/OMA催化剂结构和性质的影响 | 第70-75页 |
3.4.2.1 XRD表征 | 第70-72页 |
3.4.2.2 N_2物理吸附 | 第72-73页 |
3.4.2.3 吡啶分子吸附表征 | 第73-74页 |
3.4.2.4 H_2-TPR表征 | 第74-75页 |
3.5 本章小结 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-80页 |
第四章 稀土调变的有序介孔氧化铝负载钴催化剂的制备、表征和费托反应研究 | 第80-100页 |
4.1 引言 | 第80-81页 |
4.2 催化剂的制备 | 第81-83页 |
4.2.1 稀土金属修饰的介孔氧化铝的合成 | 第82页 |
4.2.2 钴催化剂的制备 | 第82-83页 |
4.3 添加稀土金属对Co/OMA催化剂F-T反应性能的影响 | 第83-84页 |
4.4 Ce添加量对Co/OMA催化剂F-T反应性能的影响 | 第84页 |
4.5 Co/Ce-OMA催化剂的表征 | 第84-90页 |
4.5.1 XRD表征 | 第84-87页 |
4.5.2 N_2物理吸附 | 第87-88页 |
4.5.3 TEM表征 | 第88-89页 |
4.5.4 H_2-TPR | 第89-90页 |
4.6 La添加量对Co/La-OMA催化剂F-T反应性能的影响 | 第90页 |
4.7 Co/La-OMA催化剂的表征 | 第90-96页 |
4.7.1 XRD表征 | 第90-93页 |
4.7.2 N_2物理吸附 | 第93-94页 |
4.7.3 TEM表征 | 第94-95页 |
4.7.4 H_2-TPR | 第95-96页 |
4.8 本章小结 | 第96-98页 |
参考文献 | 第98-100页 |
第五章 双稀土助剂修饰的有序介孔氧化铝负载钴催化剂的制备、表征和费托反应研究 | 第100-114页 |
5.1 引言 | 第100页 |
5.2 催化剂的制备 | 第100-101页 |
5.2.1 铈修饰的介孔氧化铝的合成 | 第100-101页 |
5.2.2 钴催化剂的制备 | 第101页 |
5.3 助剂La对催化剂费托反应性能的影响 | 第101-103页 |
5.3.1 La含量对Co/La/ OMA催化剂费托反应性能的影响 | 第101-102页 |
5.3.2 La含量对Co/La/Ce-OMA催化剂费托反应性能的影响 | 第102-103页 |
5.4 Co/La/Ce-OMA催化剂的表征 | 第103-111页 |
5.4.1 XRD表征 | 第103-106页 |
5.4.2 N_2物理吸附 | 第106-107页 |
5.4.3 Raman表征 | 第107-108页 |
5.4.4 TEM表征 | 第108-109页 |
5.4.5 XPS表征 | 第109-110页 |
5.4.6 H_2-TPR表征 | 第110-111页 |
5.5 本章小结 | 第111-112页 |
参考文献 | 第112-114页 |
硕士期间发表论文 | 第114-115页 |
致谢 | 第115-116页 |