| 摘要 | 第10-12页 |
| Abstract | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第15-38页 |
| 1.1 引言 | 第15-16页 |
| 1.2 费托合成概述 | 第16-18页 |
| 1.2.1 费托合成反应机理 | 第16-17页 |
| 1.2.2 费托合成反应产物分布 | 第17-18页 |
| 1.3 费托合成钴催化剂的研究进展 | 第18-28页 |
| 1.3.1 制备方法对催化剂的影响 | 第19-20页 |
| 1.3.2 制备条件对催化剂的影响 | 第20-21页 |
| 1.3.3 Co前驱体对催化剂的影响 | 第21-22页 |
| 1.3.4 载体对催化剂催化性能的影响 | 第22-24页 |
| 1.3.5 助剂对催化剂的影响 | 第24-27页 |
| 1.3.6 催化剂失活 | 第27-28页 |
| 1.4 选题依据和研究内容 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-38页 |
| 第二章 实验部分 | 第38-47页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第38-39页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第38-39页 |
| 2.1.2 主要仪器装置 | 第39页 |
| 2.2 催化剂制备 | 第39-41页 |
| 2.2.1 浸渍法制备Co_(15)/Ti-SiO_2催化剂 | 第39-40页 |
| 2.2.2 浸渍法制备Co_(15)/X-SiO_2催化剂 | 第40页 |
| 2.2.3 Co/ZnO催化剂的制备 | 第40页 |
| 2.2.4 Co_(10)/Ti_x-ZnO催化剂制备 | 第40-41页 |
| 2.3 催化剂活性评价及计算方法 | 第41-44页 |
| 2.3.1 催化剂活性评价装置 | 第41-43页 |
| 2.3.2 产物分析计算公式 | 第43-44页 |
| 2.4 催化剂表征 | 第44-46页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析(XRD) | 第44-45页 |
| 2.4.2 比表面积以及孔结构的测定(BET) | 第45页 |
| 2.4.3 程序升温还原测试(H_2-TPR) | 第45页 |
| 2.4.4 扫描电子显微镜测试(SEM) | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 浸渍法制备Co/SiO_2费托合成催化剂 | 第47-64页 |
| 3.1 不同助剂修饰SiO_2对Co/SiO_2催化剂的影响 | 第47-52页 |
| 3.1.1 催化剂活性评价结果 | 第47-48页 |
| 3.1.2 催化剂XRD表征 | 第48-49页 |
| 3.1.3 催化剂比表面积测试及扫描电镜图 | 第49-50页 |
| 3.1.4 催化剂程序升温还原表征 | 第50-52页 |
| 3.2 添加T助剂对Co_(15)/SiO_2催化剂的影响 | 第52-54页 |
| 3.2.1 Ti助剂对Co_(15)/SiO_2催化剂F-T反应性能的影响 | 第52页 |
| 3.2.2 添加Ti助剂的催化剂的XRD图 | 第52-53页 |
| 3.2.3 Ti助剂对催化剂表面孔道结构的影响 | 第53-54页 |
| 3.2.4 添加Ti助剂的催化剂的TPR谱图 | 第54页 |
| 3.3 Ru助剂对Co_(15)/Ti_(2.5)-SiO_2催化剂F-T反应性能的影响 | 第54-60页 |
| 3.3.1 催化剂活性评价 | 第55页 |
| 3.3.2 Ru助剂对催化剂孔道结构和晶型的影响 | 第55-57页 |
| 3.3.3 催化剂H_2-TPR和H_2-TPD表征 | 第57-58页 |
| 3.3.4 Ru_(0.5)Co)(15)/Ti_(2.5)-SiO_2催化剂稳定性测试 | 第58-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第四章 沉淀法制备Co/ZnO费托合成催化剂的研究 | 第64-84页 |
| 4.1 沉淀温度对制备Co_(10)ZnO催化剂的影响 | 第64-68页 |
| 4.1.1 催化剂活性评结果 | 第64-65页 |
| 4.1.2 催化剂BET和SEM表征 | 第65-66页 |
| 4.1.3 催化剂XRD表征 | 第66-68页 |
| 4.1.4 催化剂TPR表征 | 第68页 |
| 4.2 不同沉淀剂对Co_(10)/ZnO催化剂的影响 | 第68-73页 |
| 4.2.1 不同沉淀剂对Co_(10)/ZnO催化剂F-T反应性能的影响 | 第69页 |
| 4.2.2 不同沉淀剂制备的催化剂SEM和BET表征 | 第69-71页 |
| 4.2.3 不同沉淀剂制备的催化剂的XRD图 | 第71页 |
| 4.2.4 不同沉淀剂制备的催化剂TPR表征 | 第71-73页 |
| 4.3 Ti助剂对Co_(10)/ZnO催化剂的结构和性能的影响 | 第73-77页 |
| 4.3.1 Ti助剂对Co_(10)/ZnO催化剂F-T反应性能的影响 | 第73-74页 |
| 4.3.2 Ti助剂对催化剂表面孔道结构的影响 | 第74-75页 |
| 4.3.3 Co_(10)/Ti_x-ZnO催化剂的XRD表征 | 第75-76页 |
| 4.3.4 Co_(10)/Ti_x-ZnO催化剂的TPR表征 | 第76-77页 |
| 4.4 Co_(10)/Ti_1-ZnO催化剂反应条件优化 | 第77-81页 |
| 4.4.1 反应空速对Co_(10)/Ti_1-ZnO催化剂的影响 | 第77-78页 |
| 4.4.2 反应温度对Co_(10)/Ti_1-ZnO催化剂的影响 | 第78-79页 |
| 4.4.3 催化剂稳定性测试 | 第79-81页 |
| 4.5 本章小结 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 第五章 结束语 | 第84-86页 |
| 硕士期间发表论文与专利 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
