镁合金微弧氧化膜的性能研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 镁合金与其表面处理技术概况 | 第12-15页 |
| 1.1.1 镁及镁合金的特性 | 第12页 |
| 1.1.2 镁合金的应用现状 | 第12-13页 |
| 1.1.3 镁合金的应用中面临的问题 | 第13-14页 |
| 1.1.4 镁合金表面处理技术 | 第14-15页 |
| 1.2 微弧氧化技术 | 第15-20页 |
| 1.2.1 基本原理 | 第15-16页 |
| 1.2.2 制备方法 | 第16-17页 |
| 1.2.3 微弧氧化的技术特点 | 第17-18页 |
| 1.2.4 影响微弧氧化膜性能的因素 | 第18-19页 |
| 1.2.5 镁合金微弧氧化技术的国内外研究进展 | 第19-20页 |
| 1.3 闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀 | 第20-21页 |
| 1.4 腐蚀磨损 | 第21-22页 |
| 1.5 本课题的研究目的和主要内容 | 第22-24页 |
| 第2章 试验方法 | 第24-30页 |
| 2.1 试验材料及试剂 | 第24-25页 |
| 2.1.1 试验材料 | 第24页 |
| 2.1.2 试验试剂 | 第24-25页 |
| 2.2 试验设备 | 第25页 |
| 2.3 微弧氧化电解液的配制 | 第25-26页 |
| 2.4 微弧氧化膜层的制备 | 第26页 |
| 2.5 镁合金磁控溅射离子镀处理及复合膜层的制备 | 第26-27页 |
| 2.6 测试方法 | 第27-30页 |
| 第3章 膜层的形貌及结构分析 | 第30-40页 |
| 3.1 微弧氧化膜层的微观形貌 | 第30-33页 |
| 3.1.1 微弧氧化膜的微观形貌分析 | 第30-31页 |
| 3.1.2 磁控溅射离子镀处理对微观形貌的影响 | 第31-33页 |
| 3.2 膜层的相组成分析 | 第33-34页 |
| 3.3 膜层的厚度分析 | 第34-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 膜层的耐腐蚀性研究 | 第40-60页 |
| 4.1 稳态极化曲线 | 第40-41页 |
| 4.2 微弧氧化膜的耐蚀性 | 第41-44页 |
| 4.2.1 电化学试验结果及分析 | 第41-42页 |
| 4.2.2 浸泡试验结果及分析 | 第42-43页 |
| 4.2.3 微弧氧化试样腐蚀机理的探究 | 第43-44页 |
| 4.3 磁控溅射离子镀对耐蚀性的影响及腐蚀机理 | 第44-48页 |
| 4.3.1 磁控溅射离子镀CrN膜层的耐蚀性 | 第44-46页 |
| 4.3.2 腐蚀机理的探究 | 第46-48页 |
| 4.4 电解液浓度及工艺参数对膜层耐蚀性的影响 | 第48-58页 |
| 4.4.1 硅酸钠浓度的影响 | 第48-50页 |
| 4.4.2 氟化钾浓度的影响 | 第50-51页 |
| 4.4.3 氢氧化钠浓度的影响 | 第51-53页 |
| 4.4.4 甘油浓度的影响 | 第53-54页 |
| 4.4.5 处理时间的影响 | 第54-56页 |
| 4.4.6 电流密度的影响 | 第56-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 第5章 膜层的腐蚀磨损行为研究 | 第60-76页 |
| 5.1 腐蚀磨损的规律 | 第60-61页 |
| 5.2 微弧氧化膜的耐磨性 | 第61-63页 |
| 5.3 摩擦条件对膜层耐磨性的影响 | 第63-69页 |
| 5.3.1 转速的影响 | 第63-65页 |
| 5.3.2 载荷的影响 | 第65-67页 |
| 5.3.3 磨损时间的影响 | 第67-69页 |
| 5.4 摩擦磨损机理探究 | 第69-70页 |
| 5.5 电解液浓度及工艺参数对膜层耐磨性的影响 | 第70-74页 |
| 5.5.1 硅酸钠浓度的影响 | 第70-71页 |
| 5.5.2 氟化钾浓度的影响 | 第71-72页 |
| 5.5.3 氢氧化钠浓度的影响 | 第72页 |
| 5.5.4 甘油浓度的影响 | 第72-73页 |
| 5.5.5 处理时间的影响 | 第73-74页 |
| 5.5.6 电流密度的影响 | 第74页 |
| 5.6 本章小结 | 第74-76页 |
| 第6章 结论与展望 | 第76-78页 |
| 6.1 结论 | 第76-77页 |
| 6.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第84页 |
