镁合金微弧氧化膜的耐蚀性及无机封孔处理研究
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 镁及镁合金的性质与表面处理技术概况 | 第11-17页 |
1.2.1 镁及镁合金的特性 | 第11-12页 |
1.2.2 镁及镁合金的应用 | 第12-14页 |
1.2.3 镁及镁合金的表面处理技术 | 第14-17页 |
1.3 微弧氧化技术 | 第17-24页 |
1.3.1 发展历程与研究现状 | 第17-19页 |
1.3.2 微弧氧化基本原理 | 第19-20页 |
1.3.3 微弧氧化膜的制备方法 | 第20-21页 |
1.3.4 微弧氧化膜的结构特点与性能表征 | 第21-23页 |
1.3.5 微弧氧化膜性能的影响因素 | 第23-24页 |
1.4 氧化膜封孔处理的研究现状 | 第24-26页 |
1.5 本课题的研究目的和主要内容 | 第26-27页 |
第2章 实验条件及研究方法 | 第27-41页 |
2.1 实验方案 | 第27页 |
2.2 实验材料、试剂及实验设备 | 第27-30页 |
2.2.1 实验材料 | 第27-28页 |
2.2.2 实验试剂 | 第28-29页 |
2.2.3 主要实验设备 | 第29-30页 |
2.3 镁合金微弧氧化膜的制备 | 第30-33页 |
2.3.1 微弧氧化膜制备预处理 | 第30-31页 |
2.3.2 微弧氧化电解液的配制 | 第31-32页 |
2.3.3 微弧氧化处理 | 第32-33页 |
2.4 微弧氧化膜的后处理 | 第33-34页 |
2.4.1 封孔机理 | 第33-34页 |
2.4.2 封孔处理配方及工艺 | 第34页 |
2.5 物理测试分析 | 第34-37页 |
2.5.1 膜层的微观形貌 | 第34-35页 |
2.5.2 膜层的相组成 | 第35-37页 |
2.5.3 膜层的厚度 | 第37页 |
2.6 膜层的耐腐蚀性能测试 | 第37-39页 |
2.6.1 工作电极的制备 | 第38页 |
2.6.2 盐桥的制备 | 第38页 |
2.6.3 Tafel极化曲线测量 | 第38-39页 |
2.7 膜层的摩擦磨损性能测试 | 第39-41页 |
第3章 微弧氧化膜层结构分析 | 第41-46页 |
3.1 微弧氧化膜层形貌分析 | 第41-43页 |
3.2 微弧氧化膜层相组成分析 | 第43-44页 |
3.2.1 定性分析 | 第43-44页 |
3.2.2 定量分析 | 第44页 |
3.3 微弧氧化膜的厚度 | 第44-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-46页 |
第4章 膜层的耐蚀性及摩擦磨损性能研究 | 第46-59页 |
4.1 Tafel极化曲线测量结果及分析 | 第46-47页 |
4.2 工艺参数对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第47-52页 |
4.2.1 电源电压的影响 | 第48-49页 |
4.2.2 频率的影响 | 第49-50页 |
4.2.3 微弧氧化处理时间的影响 | 第50-51页 |
4.2.4 30%H_2O_2浓度的影响 | 第51-52页 |
4.3 加热腐蚀后微弧氧化膜的耐蚀性 | 第52-55页 |
4.3.1 不同腐蚀时间膜层的耐蚀性能 | 第53-54页 |
4.3.2 不同电源电压下膜层的耐蚀性能 | 第54-55页 |
4.4 工艺参数对膜层摩擦磨损性能的影响 | 第55-58页 |
4.4.1 电源电压的影响 | 第55-56页 |
4.4.2 频率的影响 | 第56页 |
4.4.3 微弧氧化处理时间的影响 | 第56-57页 |
4.4.4 30%H_2O_2浓度的影响 | 第57-58页 |
4.5 本章小结 | 第58-59页 |
第5章 封孔处理对膜层性能影响的研究 | 第59-66页 |
5.1 封孔处理对膜层形貌结构的影响 | 第59-62页 |
5.1.1 对膜层表面形貌的影响 | 第59-60页 |
5.1.2 对膜层相组成的影响 | 第60-61页 |
5.1.3 常温封孔的时效特性 | 第61-62页 |
5.2 封孔处理对膜层耐蚀性的影响 | 第62-64页 |
5.2.1 电化学测试 | 第62-63页 |
5.2.2 浸泡腐蚀测试 | 第63-64页 |
5.3 封孔处理对膜层耐磨性的影响 | 第64-65页 |
5.4 本章小结 | 第65-66页 |
第6章 结论与展望 | 第66-68页 |
6.1 本论文主要结论 | 第66-67页 |
6.2 前景及展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第74页 |