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InGaAs纳米结构的制备及光电特性研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-23页
    1.1 引言第10-15页
        1.1.1 纳米半导体材料概述第10-11页
        1.1.2 纳米半导体器件及应用第11-13页
        1.1.3 纳米半导体材料研究的评价技术第13-15页
    1.2 铟镓砷纳米半导体材料第15-21页
        1.2.1 铟镓砷纳米材料的常用制备方法第15-18页
        1.2.2 铟镓砷纳米材料的应用第18-20页
        1.2.3 铟镓砷红外探测器研究现状和趋势第20-21页
    1.3 论文选题背景、意义及研究内容第21-23页
第2章 高质量铟镓砷纳米线的制备第23-30页
    2.1 引言第23-24页
    2.2 实验部分第24-25页
        2.2.1 实验试剂与材料第24页
        2.2.2 样品表征和测试仪器第24页
        2.2.3 铟镓砷纳米线制备第24-25页
    2.3 实验结果与讨论第25-29页
        2.3.1 产物SEM表征结果和分析第25页
        2.3.2 产物XRD表征结果和分析第25-26页
        2.3.3 铟镓砷纳米线TEM和EDS表征结果及分析第26-27页
        2.3.5 高质量铟镓砷纳米线形成机理研究第27页
        2.3.6 铟镓砷纳米线的光致发光特性研究第27-29页
    2.4 本章小结第29-30页
第3章 铟镓砷纳米线近红外探测器第30-37页
    3.1 引言第30-31页
    3.2 实验部分第31-34页
        3.2.1 实验试剂与材料第31页
        3.2.2 实验仪器第31页
        3.2.3 铟镓砷纳米线光电探测器的制做第31-33页
        3.2.4 纳米线光电探测器的特征参数第33-34页
    3.3 实验结果与讨论第34-36页
        3.3.1 In_(0.65)Ga_(0.35)As纳米线光探测器变波长光响应特性第34-35页
        3.3.2 In_(0.65)Ga_(0.35)As纳米线光探测器变功率光响应特性第35页
        3.3.3 In_(0.65)Ga_(0.35)As纳米线光探测器高性能分析第35-36页
    3.4 本章小结第36-37页
第4章 铟镓砷合金纳米带的制备第37-44页
    4.1 引言第37-38页
    4.2 实验部分第38-39页
        4.2.1 实验试剂与材料第38页
        4.2.2 样品表征和测试仪器第38页
        4.2.3 铟镓砷纳米带制备第38-39页
    4.3 实验结果与讨论第39-42页
        4.3.1 纳米带SEM表征结果和分析第39页
        4.3.2 纳米带TEM和EDS表征结果及分析第39-40页
        4.3.3 铟镓砷纳米带光致发光特性研究第40-41页
        4.3.4 不同组分铟镓砷合金纳米带制备第41-42页
    4.4 本章小结第42-44页
结论与展望第44-46页
参考文献第46-54页
致谢第54-55页
附录A 攻读硕士学位期间发表的学术论文第55页

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