| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-15页 |
| 1.1 Skyrmion的拓扑性质及产生机制介绍 | 第8-12页 |
| 1.2 论文的研究动机和研究内容 | 第12-15页 |
| 第二章 各种材料中的skyrmion | 第15-30页 |
| 2.1 薄膜和块体材料中的skyrmion | 第15-22页 |
| 2.2 多铁材料中的skyrmion | 第22-26页 |
| 2.3 界面材料中的skyrmion | 第26-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 铁电铁磁界面处skyrmion电场可控的探讨 | 第30-50页 |
| 3.1 复合型多铁材料的构成 | 第30-31页 |
| 3.2 界面处的磁电耦合 | 第31-44页 |
| 3.2.1 界面屏蔽电荷磁电耦合 | 第31-36页 |
| 3.2.2 界面张力磁电耦合 | 第36-39页 |
| 3.2.3 螺旋磁体中的磁电耦合 | 第39-44页 |
| 3.3 界面处Rashba自旋轨道耦合引起的DM相互作用 | 第44-47页 |
| 3.4 蒙特卡洛模拟 | 第47-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 模拟结果总结与分析 | 第50-66页 |
| 4.1 Skyrmion的相图 | 第50-52页 |
| 4.2 周期性电场下skyrmion的动力学 | 第52-56页 |
| 4.3 电场频率对skyrmion动力学的影响 | 第56-58页 |
| 4.4 Rashba自旋轨道耦合作用下的skyrmion | 第58-60页 |
| 4.5 开放性边界条件下的skyrmion动力学 | 第60-61页 |
| 4.6 Skyrmion的微波电场响应 | 第61-65页 |
| 4.7 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 在学期间的研究成果 | 第76页 |
| 参与的科研项目 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
