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碳纳米管场发射荧光管的制备及性能研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 绪论第11-22页
   ·课题研究背景第11-12页
   ·CNT-FEL 的结构原理及发展现状第12-15页
     ·CNT-FEL 的结构与工作原理第12-14页
     ·CNT-FEL 的国内外研究现状第14-15页
   ·CNT-FEL 的制备工艺及相关理论第15-21页
     ·碳纳米管阴极及其制备方法第15-17页
       ·碳纳米管场发射机理第15-16页
       ·碳纳米管阴极的制备方法第16-17页
     ·CNT-FEL 阳极荧光屏及其制备方法第17-21页
       ·ITO 薄膜的性能与制备方法第17-19页
       ·涂屏工艺第19-21页
   ·课题研究意义与本文主要工作第21-22页
第二章 溶胶-凝胶法制备ITO 透明导电阳极第22-50页
   ·溶胶-凝胶原理第22-24页
     ·溶胶-凝胶法制备薄膜的基本过程第22-23页
     ·溶胶-凝胶法采用的起始原料第23-24页
     ·溶胶-凝胶法的特点第24页
   ·ITO 薄膜材料的制备第24-29页
     ·实验原料的确定第24-26页
     ·实验流程第26-29页
   ·ITO 薄膜的表面形貌与物相结构第29-36页
     ·表征方法与分析手段第29-30页
     ·结果分析第30-36页
       ·薄膜的物相分析第30-33页
       ·薄膜的表面形貌第33-35页
       ·薄膜的成分分析第35-36页
   ·ITO 薄膜的电学性能第36-43页
     ·ITO 薄膜的导电机理第36-37页
     ·ITO 薄膜方阻的测试第37-38页
     ·测试结果与讨论第38-43页
       ·铟离子浓度对薄膜导电性的影响第38-39页
       ·掺Sn 摩尔比对薄膜导电性能的影响第39-40页
       ·热处理温度、时间与气氛对薄膜导电性能的影响第40-42页
       ·镀膜次数对薄膜导电性能的影响第42-43页
   ·ITO 薄膜的光学性能第43-47页
     ·ITO 透光机理第43-44页
     ·ITO 薄膜可见光透过率的测试第44页
     ·实验结果与讨论第44-47页
       ·镀膜次数对薄膜透过率的影响第44-45页
       ·掺Sn 摩尔比对薄膜透过率的影响第45-46页
       ·热处理温度、热处理时间对薄膜透过率的影响第46-47页
   ·荧光管阳极导电层的制备第47-50页
     ·工艺参数的设计第47-48页
     ·制备ITO 导电阳极第48-50页
第三章 荧光粉的涂敷工艺研究第50-60页
   ·荧光粉层厚度设计第50页
   ·电泳沉积荧光粉第50-58页
     ·实验前期准备工作第51-53页
       ·实验装置的设计第51页
       ·衬底材料的准备第51页
       ·有机溶剂与电解质的选择第51-53页
       ·电泳液的配制第53页
     ·沉积荧光粉实验第53-58页
       ·实验参数设计第53-54页
       ·实验过程和结果讨论第54-58页
   ·荧光管阳极荧光粉层的制备第58-60页
     ·工艺参数的设计第58-59页
     ·制备荧光管阳极荧光粉层第59-60页
第四章 碳纳米管场发射荧光管的测试第60-68页
   ·CNT 阴极场发射性能测试第60-61页
   ·荧光管的测试与结果讨论第61-68页
     ·荧光管的组装与测试装置的设计第61-63页
     ·测试结果与分析第63-68页
       ·亮度理论计算第63-65页
       ·实验结果与讨论第65-68页
第五章 结论第68-70页
   ·结论第68-69页
   ·展望第69-70页
致谢第70-71页
参考文献第71-75页
个人简历第75页
攻硕期间取得的研究成果第75-76页

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