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Ni-Mn-In-Gd铁磁形状记忆合金薄膜的制备与组织结构和磁性能研究

摘要第2-3页
Abstract第3-4页
第1章 绪论第6-11页
    1.1 选题背景及研究的目的和意义第6-7页
    1.2 Heusler合金第7页
    1.3 Ni-Mn-In合金的晶体结构第7-8页
    1.4 Ni-Mn-In合金的马氏体相变第8-10页
    1.5 主要研究内容第10-11页
第2章 实验材料及方法第11-14页
    2.1 材料制备及热处理第11-12页
    2.2 表面形貌与化学成分分析第12-13页
    2.3 物相与微观组织分析第13页
    2.4 磁学性能测试第13-14页
第3章 Ni-Mn-In-Gd合金薄膜的制备及成分分析第14-25页
    3.1 引言第14页
    3.2 制备工艺参数对Ni-Mn-In薄膜表面形貌的影响第14-18页
    3.3 制备工艺参数对NI-Mn-In-Gd薄膜表面形貌的影响第18-22页
    3.4 制备工艺参数Ni-Mn-In薄膜化学成分的影响第22-23页
    3.5 制备工艺参数对Ni-Mn-In-Gd薄膜化学成分的影响第23-24页
    3.6 本章小结第24-25页
第4章 Ni-Mn-In-Gd合金薄膜的显微组织结构与晶体结构第25-30页
    4.1 引言第25页
    4.2 不同温度退火处理对薄膜的影响第25-27页
    4.3 Gd的掺杂对Ni-Mn-In薄膜的微观结构和组织结构第27-29页
    4.4 本章小结第29-30页
第5章 Ni-Mn-In-Gd合金薄膜的磁性能第30-34页
    5.1 引言第30页
    5.2 不同温度退火处理对Ni-Mn-In薄膜的影响第30-32页
    5.3 Gd的掺杂对Ni-Mn-In薄膜磁性能的影响第32-33页
    5.4 结论第33-34页
第6章 结论第34-35页
致谢第35-36页
研究生阶段在校科研成果第36-37页
参考文献第37-39页

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