基于介质材料的超构表面的设计与实现
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 超材料的研究与发展 | 第10-15页 |
| 1.3 超构表面的研究现状 | 第15-23页 |
| 1.3.1 国内超构表面的研究状况 | 第16-17页 |
| 1.3.2 国外超构表面的研究情况 | 第17-23页 |
| 1.4 本论文主要研究工作 | 第23-25页 |
| 第2章 介质材料的谐振理论分析 | 第25-34页 |
| 2.1 介质材料的米氏谐振分析 | 第25-27页 |
| 2.2 介质天线多极散射理论分析 | 第27-30页 |
| 2.3 硅天线谐振的数值仿真分析 | 第30-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 基于硅天线的功能超构表面设计与实现 | 第34-58页 |
| 3.1 几何结构参数对硅天线散射特性影响分析 | 第34-42页 |
| 3.1.1 单元结构各个功能层厚度影响分析 | 第34-38页 |
| 3.1.2 单元结构周期对散射波调控的数值分析 | 第38-40页 |
| 3.1.3 硅天线的长和宽对散射波调控的数值分析 | 第40-42页 |
| 3.2 基于硅天线的偏振转换器与异常反射设计实现 | 第42-49页 |
| 3.2.1 基于硅天线的偏振转换器超构表面 | 第42-44页 |
| 3.2.2 基于硅天线的异常反射超构表面 | 第44-49页 |
| 3.3 基于硅天线的平面透镜超构表面设计与实现 | 第49-54页 |
| 3.4 可动态调控平面透镜超构表面设计与实现 | 第54-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 超构表面的实验样品制备 | 第58-67页 |
| 4.1 超构表面实验样品制备流程 | 第58-59页 |
| 4.2 电子束蒸镀制备薄膜与光学性质测量 | 第59-62页 |
| 4.2.1 制备功能层薄膜的主要流程 | 第59-60页 |
| 4.2.2 不同硅薄膜样品的光学参数测量 | 第60-62页 |
| 4.3 电子束曝光技术制备图案掩膜 | 第62-64页 |
| 4.4 感应等离子体反应离子刻蚀制备超构表面结构 | 第64-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
