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SiO2纳米材料的制备和性能研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
1 绪论第12-21页
    1.1 研究背景第12页
    1.2 纳米材料的特性第12-14页
    1.3 国内外二氧化硅纳米材料的发展现状第14-19页
        1.3.1 纳米二氧化硅的性质第14-16页
            1.3.1.1 基本特性第14-15页
            1.3.1.2 光学特性第15-16页
            1.3.1.3 化学特性第16页
        1.3.2 纳米SiO_2的制备方法第16-18页
        1.3.3 纳米SiO_2的生长机制第18页
        1.3.4 纳米SiO_2的应用第18-19页
    1.4 本论文研究的目的及意义第19页
    1.5 本论文研究的主要内容第19-21页
2 实验设备与测试方法第21-25页
    2.1 实验设备第21-22页
        2.1.1 高温管式炉第21页
        2.1.2 直联旋片式真空泵第21-22页
        2.1.3 超声波清洗仪第22页
        2.1.4 水平电子天平秤第22页
    2.2 实验材料第22-23页
        2.2.1 实验材料及气体第22页
        2.2.2 衬底预处理第22-23页
    2.3 实验表征与测试分析第23-25页
        2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)第23页
        2.3.2 能谱X-射线分析(EDX)第23页
        2.3.3 透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)第23页
        2.3.4 X射线衍射谱(XRD)第23-24页
        2.3.5 拉曼光谱(Raman)第24页
        2.3.6 光致发光光谱(PL)第24页
        2.3.7 紫外可见吸收光谱(UV)第24-25页
3 SiO_2纳米晶体镶嵌在非晶SiO_2纳米线第25-33页
    3.1 引言第25页
    3.2 实验部分第25-26页
        3.2.1 实验材料和测试仪器第25页
        3.2.2 SiO_2纳米晶体和非晶纳米线的制备第25-26页
    3.3 实验与结论第26-32页
        3.3.1 SiO_2纳米晶体和非晶纳米线的结构表征第26-29页
        3.3.2 SiO_2纳米晶体和非晶纳米线的生长机理第29-30页
        3.3.3 SiO_2纳米晶体和非晶纳米线的光学性能测试第30-32页
    3.4 本章总结第32-33页
4 热蒸法合成S掺杂的SiO_2微球第33-38页
    4.1 引言第33页
    4.2 实验部分第33-34页
        4.2.1 实验材料和测试设备第33页
        4.2.2 S掺杂的SiO_2微球的制备第33-34页
    4.3 实验结果与讨论第34-37页
        4.3.1 SiO_2微球的结构表征第34-36页
        4.3.2 SiO_2微球的生长机理第36-37页
        4.3.3 SiO_2微球的光学性能测试第37页
    4.4 本章总结第37-38页
5 Si纳米晶嵌入对SiO_2纳米网状发光性能的影响第38-44页
    5.1 引言第38页
    5.2 实验部分第38-39页
        5.2.1 实验材料第38页
        5.2.2 SiO_2纳米网络结构的制备第38-39页
    5.3 实验结果与讨论第39-43页
        5.3.1 SiO_2纳米网络结构的结构表征第39-41页
        5.3.2 SiO_2纳米网络结构的生长机理第41页
        5.3.3 SiO_2纳米网状结构的光学性能测试第41-43页
    5.4 本章总结第43-44页
6 结论及展望第44-46页
    6.1 结论第44页
    6.2 展望第44-46页
参考文献第46-52页
作者攻读硕士学位期间的学术论文目录第52-53页
致谢第53-54页

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