多弧离子镀和磁控溅射复合制备（Ti,Al）N薄膜研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·前言 | 第9-12页 |
| ·TiAlN 的性质结构 | 第12-14页 |
| ·TiAlN 薄膜的制备方法 | 第14-17页 |
| ·化学气相沉积 | 第14-15页 |
| ·物理气相沉积 | 第15-17页 |
| ·磁控溅射的原理和优点及其应用 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射原理 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射技术的优点 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射技术的应用 | 第19页 |
| ·TiAlN 的研究现状 | 第19-21页 |
| ·课题意义及研究内容 | 第21-23页 |
| ·课题意义 | 第21-22页 |
| ·研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 实验设备材料与方法 | 第23-37页 |
| ·实验设备 | 第23-24页 |
| ·实验材料 | 第24-25页 |
| ·基体材料 | 第24页 |
| ·涂层材料 | 第24-25页 |
| ·试样的制备 | 第25-30页 |
| ·基体试样的表面预处理 | 第25页 |
| ·试样的沉积 | 第25-30页 |
| ·膜层检测方法 | 第30-37页 |
| ·膜层表面形貌与成分分析 | 第30-34页 |
| ·膜基结合力的检测 | 第34-37页 |
| 第3章 膜层表面形貌与成分 | 第37-51页 |
| ·工艺参数对膜层表面形貌的影响 | 第37-44页 |
| ·膜层成分分析 | 第44-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第4章 TiAlN 膜层的性能研究 | 第51-57页 |
| ·膜基结合力的研究 | 第51-53页 |
| ·膜基结合力数据分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 在学期间研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
