| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·多弧离子镀概述 | 第12-15页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第12-13页 |
| ·多弧离子镀技术设备 | 第13-14页 |
| ·多弧离子镀技术特点 | 第14-15页 |
| ·多元氮化物硬质反应膜 | 第15-16页 |
| ·TiAlON 薄膜研究进展 | 第16-17页 |
| ·本课题的提出 | 第17-19页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第19-27页 |
| ·靶材和基体的选取 | 第19-20页 |
| ·靶材的选取 | 第19页 |
| ·基体材料的选取 | 第19-20页 |
| ·基体材料表面预处理 | 第20页 |
| ·试样的位置摆放 | 第20页 |
| ·沉积工艺参数制定 | 第20-22页 |
| ·基体负偏压 | 第21页 |
| ·阴极弧电流 | 第21页 |
| ·反应气体压强 | 第21-22页 |
| ·试样温度 | 第22页 |
| ·反应室真空度 | 第22页 |
| ·沉积时间 | 第22页 |
| ·沉积工艺参数与试验方案 | 第22-24页 |
| ·膜层组织及相结构分析 | 第24-25页 |
| ·膜层性能分析 | 第25-27页 |
| 第3章 TiAlON/TiAlN/TiAl 复合膜 | 第27-47页 |
| ·TiAlON/TiAlN/TiAl 复合膜表面形貌与成分分析 | 第27-30页 |
| ·膜层表面形貌 | 第27-28页 |
| ·膜层表面成分 | 第28-30页 |
| ·TiAlON/TiAlN/TiAl 复合膜断面形貌与成分分析 | 第30-35页 |
| ·膜层断面形貌 | 第30-31页 |
| ·膜层断面成分 | 第31-35页 |
| ·TiAlON/TiAlN/TiAl 复合膜相组成分析 | 第35-38页 |
| ·TiAlON/TiAlN/TiAl 复合膜显微硬度与附着力分析 | 第38-41页 |
| ·膜层显微硬度 | 第38-40页 |
| ·膜层附着力 | 第40-41页 |
| ·TiAlON/TiAlN/TiAl 复合膜抗热震性能分析 | 第41-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 TiAlON/TiAl 复合膜 | 第47-65页 |
| ·TiAlON /TiAl 复合膜表面形貌与成分分析 | 第47-49页 |
| ·膜层表面形貌 | 第47-48页 |
| ·膜层表面成分 | 第48-49页 |
| ·TiAlON /TiAl 复合膜断面形貌与成分分析 | 第49-54页 |
| ·膜层断面形貌 | 第49-51页 |
| ·膜层断面成分 | 第51-54页 |
| ·TiAlON /TiAl 复合膜相组成分析 | 第54-56页 |
| ·TiAlON /TiAl 复合膜显微硬度与附着力分析 | 第56-60页 |
| ·膜层显微硬度 | 第56-58页 |
| ·膜层附着力 | 第58-60页 |
| ·TiAlON /TiAl 复合膜抗热震性能分析 | 第60-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 在学期间研究成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
