反应磁控溅射与脉冲电弧制备DLC薄膜技术研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| ·课题的研究目的及意义 | 第8页 |
| ·类金刚石薄膜概述 | 第8-11页 |
| ·类金刚石薄膜的微结构 | 第8-10页 |
| ·类金刚石薄膜的性能及应用领域 | 第10-11页 |
| ·氢化类金刚石薄膜 | 第11-13页 |
| ·国内外研究现状 | 第13-15页 |
| ·类金刚石薄膜发展 | 第13页 |
| ·类金刚石薄膜的制备技术 | 第13-15页 |
| ·研究的主要内容 | 第15-16页 |
| 2 研究技术路线及方案 | 第16-20页 |
| ·课题的研究路线 | 第16-17页 |
| ·课题方案与可行性论证 | 第17-20页 |
| 3 类金刚石薄膜的制备技术研究 | 第20-30页 |
| ·脉冲真空电弧离子镀技术 | 第20-23页 |
| ·脉冲真空电弧离子镀技术 | 第20-21页 |
| ·脉冲真空电弧离子镀制备DLC薄膜 | 第21-23页 |
| ·反应磁控溅射技术 | 第23-29页 |
| ·非平衡磁控溅射 | 第23-26页 |
| ·反应磁控溅射 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 4 反应磁控溅射制备氢化DLC薄膜 | 第30-45页 |
| ·氢化DLC薄膜的制备工艺 | 第30-32页 |
| ·制备工艺 | 第30-31页 |
| ·制备过程 | 第31-32页 |
| ·氢化DLC薄膜性能表征 | 第32-40页 |
| ·椭圆偏振法测量光学常数 | 第32-35页 |
| ·傅里叶变换法测透过率 | 第35-36页 |
| ·薄膜硬度的测量 | 第36-38页 |
| ·膜层厚度及表面形貌表征 | 第38-40页 |
| ·实验结果与分析 | 第40-44页 |
| ·反应气体CH_4流量对沉积速率的影响 | 第40-41页 |
| ·反应气体CH_4流量对光学常数的影响 | 第41-43页 |
| ·反应气体CH_4流量对样片显微硬度的影响 | 第43页 |
| ·反应气体CH_4流量对样片表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 5 组合技术制备DLC薄膜 | 第45-56页 |
| ·薄膜设计与制备 | 第45-48页 |
| ·膜系设计 | 第45-47页 |
| ·薄膜样片制备 | 第47-48页 |
| ·薄膜性能分析与评价 | 第48-51页 |
| ·样片的红外透过率分析 | 第48-49页 |
| ·薄膜耐磨性评价 | 第49-50页 |
| ·薄膜的附着性评价 | 第50-51页 |
| ·样片退火处理 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 6 结论 | 第56-58页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
