| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·类金刚石薄膜(DLC)简述 | 第9-17页 |
| ·类金刚石薄膜(DLC)的结构 | 第9-10页 |
| ·类金刚石薄膜(DLC)的应用 | 第10-13页 |
| ·类金刚石薄膜(DLC)的制备 | 第13-14页 |
| ·类金刚石薄膜(DLC)的性能 | 第14-16页 |
| ·DLC存在的问题及发展趋势 | 第16-17页 |
| ·非平衡磁控溅射技术(UBMS) | 第17-19页 |
| ·常规磁控溅射 | 第17-18页 |
| ·非平衡磁控溅射(UBMS) | 第18-19页 |
| ·等离子体技术 | 第19-24页 |
| ·等离子体的基本概念 | 第20页 |
| ·等离子体放电 | 第20-21页 |
| ·离子束溅射 | 第21页 |
| ·离子束轰击固体表面 | 第21-22页 |
| ·离子辅助技术 | 第22-24页 |
| ·课题研究意义 | 第24-25页 |
| 2 实验设备及检测设备 | 第25-31页 |
| ·实验设备 | 第25-27页 |
| ·非平衡磁控溅射设备 | 第25-26页 |
| ·宽束冷阴极离子源 | 第26-27页 |
| ·测试分析方法 | 第27-31页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman) | 第27-29页 |
| ·傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR) | 第29页 |
| ·椭偏仪 | 第29-31页 |
| 3 研究内容及正交试验分析 | 第31-38页 |
| ·主要研究内容及技术路线 | 第31-32页 |
| ·工艺流程 | 第32-34页 |
| ·工艺参数 | 第32页 |
| ·离子束后续处理实验流程 | 第32-33页 |
| ·UBMS方法与离子束交替镀制DLC薄膜流程 | 第33-34页 |
| ·交试验分析 | 第34-38页 |
| ·离子束后续处理无氢DLC薄膜正交试验分析 | 第34-35页 |
| ·UBMS技术与离子束交替镀制无氢DLC薄膜的正交试验分析 | 第35-38页 |
| 4 离子束对DLC薄膜的后续处理 | 第38-50页 |
| ·离子束后续处理无氢DLC薄膜 | 第38-41页 |
| ·离子束后续处理的DLC薄膜的折射率和消光系数分析 | 第38-39页 |
| ·离子束后续处理的DLC薄膜的红外透射光谱分析 | 第39页 |
| ·离子束后续处理的DLC薄膜的粗糙度分析 | 第39-40页 |
| ·离子束后续处理的DLC薄膜的Raman光谱分析 | 第40-41页 |
| ·离子束后续处理含氢DLC薄膜 | 第41-48页 |
| ·参数的确定 | 第41-45页 |
| ·离子束后续处理的含氢DLC薄膜的折射率及消光系数分析 | 第45-46页 |
| ·离子束后续处理的含氢DLC薄膜的红外透射光谱分析 | 第46-47页 |
| ·含氢DLC薄膜离子束后续处理后粗糙度分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 5 离子束与UBMS技术交替镀制DLC薄膜 | 第50-53页 |
| ·交替镀制DLC薄膜的折射率及消光系数分析 | 第50-51页 |
| ·交替镀制DLC薄膜的红外透射光谱分析 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 6 结论 | 第53-55页 |
| ·总结 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
