二氧化钛薄膜的模拟仿真及其制备
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·光催化技术的发展概况及现状 | 第11-12页 |
| ·二氧化钛的结构和改性 | 第12-17页 |
| ·二氧化钛的结构 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛的性能 | 第13-17页 |
| ·光催化性 | 第14-16页 |
| ·超亲水性 | 第16-17页 |
| ·光学特性 | 第17页 |
| ·提高二氧化钛光催化性能的方法 | 第17-20页 |
| ·光催化材料的晶型与尺寸 | 第18页 |
| ·表面敏化 | 第18-19页 |
| ·掺杂 | 第19-20页 |
| ·非金属掺杂 | 第19页 |
| ·过渡性金属掺杂 | 第19-20页 |
| ·贵金属金属掺杂 | 第20页 |
| ·复合半导体 | 第20页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第20-21页 |
| ·水热法 | 第21页 |
| ·化学气相沉积 | 第21-22页 |
| ·液相沉积 | 第22页 |
| ·微乳法 | 第22页 |
| ·磁控溅射法 | 第22-23页 |
| ·模拟仿真在材料科学的应用 | 第23-26页 |
| ·本文的主要工作 | 第26-27页 |
| ·本文的结构安排 | 第27-28页 |
| 第二章 软件模拟仿真 | 第28-44页 |
| ·分子动力学 | 第28-29页 |
| ·软件介绍 | 第29-33页 |
| ·Lammps 软件介绍 | 第29-30页 |
| ·VMD 软件介绍 | 第30-33页 |
| ·模拟制备薄膜 | 第33-41页 |
| ·模拟建模 | 第33页 |
| ·运动方程 | 第33-34页 |
| ·势函数 | 第34-35页 |
| ·程序 | 第35-39页 |
| ·模拟结果 | 第39-41页 |
| ·实验和模拟对比 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 实验和测试 | 第44-61页 |
| ·实验 | 第44-48页 |
| ·实验试剂 | 第46页 |
| ·设备仪器 | 第46页 |
| ·薄膜的制备 | 第46-48页 |
| ·添加不同酸催化剂 | 第47-48页 |
| ·添加同种酸调节不同 pH | 第48页 |
| ·非金属 S/N 掺杂 | 第48页 |
| ·结果讨论 | 第48-60页 |
| ·SEM 结果分析 | 第48-50页 |
| ·EDS 分析 | 第50-53页 |
| ·XRD 测试结果分析 | 第53-56页 |
| ·光催化性能 | 第56-60页 |
| ·吸光度性能 | 第56-58页 |
| ·光催化降解 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 结论和展望 | 第61-67页 |
| ·本论文研究总结 | 第61-63页 |
| ·前景展望 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
