一维玻璃纳流控器件制备工艺的实验研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·纳流控简介 | 第11-12页 |
| ·纳流控的由来 | 第11页 |
| ·纳流控的意义和应用价值 | 第11-12页 |
| ·纳流控芯片加工技术 | 第12-21页 |
| ·加工芯片常用材料 | 第12-13页 |
| ·掩模加工法 | 第13-18页 |
| ·牺牲层技术 | 第18-19页 |
| ·其他加工方法 | 第19-21页 |
| ·纳流控芯片的应用 | 第21-23页 |
| ·纳米医疗 | 第21-22页 |
| ·蛋白质富集 | 第22-23页 |
| ·本文研究的内容及意义 | 第23-25页 |
| 第2章 纳流控通道设计 | 第25-31页 |
| ·非平衡态下纳流控通道中离子输运的理论 | 第25页 |
| ·纳流控二极管 | 第25-29页 |
| ·纳流控二极管理论 | 第25-26页 |
| ·圆锥纳米管 | 第26-27页 |
| ·平行纳米管 | 第27-28页 |
| ·纳流控二极管在设计思路 | 第28-29页 |
| ·小结 | 第29-31页 |
| 第3章 玻璃制一维纳流控芯片的制作 | 第31-53页 |
| ·引言 | 第31-33页 |
| ·制作过程设计 | 第31-32页 |
| ·刻蚀原理 | 第32-33页 |
| ·实验部分 | 第33-40页 |
| ·试剂、材料以及仪器装置 | 第33页 |
| ·纳米芯片的制作 | 第33-40页 |
| ·结果讨论 | 第40-53页 |
| ·通道形貌的表征 | 第40-45页 |
| ·表面粗糙度轮廓仪对纳米沟槽的表征 | 第45-48页 |
| ·通道沟槽深度、宽度与刻蚀时间的关系 | 第48-53页 |
| 第4章 背面铜电极的设计与制备 | 第53-65页 |
| ·背面电极的设计 | 第53页 |
| ·背面电极的制备 | 第53-62页 |
| ·磁控溅射制备铜薄膜的研究 | 第53-54页 |
| ·磁控溅射制作背面铜电极 | 第54-62页 |
| ·背面电极的检测 | 第62-65页 |
| 第5章 纳流控芯片实验台的搭建及可实现实验过程 | 第65-73页 |
| ·实验台要实现的主要功能和设计要求 | 第65-70页 |
| ·一维玻璃纳流控实验台的搭建过程 | 第70-73页 |
| 第6章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73页 |
| ·展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
