| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| ·费-托合成研究背景及现状 | 第13-14页 |
| ·费-托合成催化剂 | 第14-19页 |
| ·铁催化剂 | 第15-16页 |
| ·钴催化剂 | 第16-19页 |
| ·费-托合成反应 | 第19-21页 |
| ·费-托合成反应器及工艺 | 第21-24页 |
| ·列管式固定床反应器 | 第21-22页 |
| ·浆态床反应器 | 第22页 |
| ·流化床反应器 | 第22-23页 |
| ·费-托合成生产工艺 | 第23-24页 |
| ·费-托合成反应机理 | 第24-26页 |
| ·碳纳米管 | 第26-27页 |
| ·碳纳米管简介 | 第26-27页 |
| ·碳纳米管在费-托合成中的应用 | 第27页 |
| ·论文选题目的和研究思路 | 第27-29页 |
| 第二章 催化剂的制备、表征及费-托合成反应活性评价方法 | 第29-34页 |
| ·催化剂的制备 | 第29-31页 |
| ·试剂和材料 | 第29页 |
| ·载体的处理 | 第29-30页 |
| ·催化剂的制备 | 第30-31页 |
| ·催化剂的表征 | 第31-32页 |
| ·透射电子显微镜 | 第31页 |
| ·N_2 吸附-脱附 | 第31页 |
| ·X-射线衍射 | 第31-32页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第32页 |
| ·X-射线光电子能谱 | 第32页 |
| ·费-托合成反应活性测试 | 第32-34页 |
| 第三章 钴活性位性质和碳纳米管的孔径对费-托合成性能的影响 | 第34-43页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·实验 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-42页 |
| ·透射电子显微镜 | 第35-37页 |
| ·N_2 物理吸附-脱附 | 第37页 |
| ·X-射线衍射 | 第37-38页 |
| ·H2-程序升温还原 | 第38-40页 |
| ·费-托合成活性测试 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 助剂二氧化锆的加入方式对碳纳米管负载钴基催化剂的费-托合成性能的影响 | 第43-49页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·实验 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-48页 |
| ·透射电子显微镜 | 第44页 |
| ·N_2 物理吸附-脱附 | 第44-45页 |
| ·X-射线衍射 | 第45-46页 |
| ·H2-程序升温还原 | 第46页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第46-47页 |
| ·费-托合成活性测试 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 助剂二氧化锆对不同孔径的碳纳米管负载钴基催化剂的费-托合成性能的影响 | 第49-55页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-54页 |
| ·透射电子显微镜 | 第50页 |
| ·N_2 物理吸附-脱附 | 第50-51页 |
| ·X-射线衍射 | 第51-52页 |
| ·H2-程序升温还原 | 第52页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第52-53页 |
| ·费-托合成活性测试 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 论文总结 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-73页 |
| 附录 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第75页 |
