| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-26页 |
| ·费-托合成的研究背景及现状 | 第11-12页 |
| ·费-托合成 | 第12-13页 |
| ·基本原理 | 第12页 |
| ·反应机理 | 第12-13页 |
| ·费-托合成催化剂 | 第13-19页 |
| ·铁基费-托合成催化剂 | 第13-14页 |
| ·钴基费-托合成催化剂 | 第14-17页 |
| ·催化剂载体的影响 | 第14-16页 |
| ·催化剂助剂的影响 | 第16-17页 |
| ·催化剂制备方法的影响 | 第17页 |
| ·钌基费-托合成催化剂 | 第17-19页 |
| ·钌催化剂的孔道效应 | 第18页 |
| ·钌催化剂的活性金属颗粒性质 | 第18-19页 |
| ·多孔碳材料 | 第19-24页 |
| ·多孔碳材料的现状 | 第19-20页 |
| ·模板法合成多孔碳材料 | 第20页 |
| ·有序中孔碳材料 | 第20-23页 |
| ·多孔碳材料的催化应用 | 第23-24页 |
| ·论文选题目的及工作思路 | 第24-26页 |
| 第2章 实验部分 | 第26-30页 |
| ·材料合成和催化剂制备 | 第26页 |
| ·试剂 | 第26页 |
| ·催化剂的制备方法 | 第26页 |
| ·催化剂的表征 | 第26-28页 |
| ·X-射线粉末衍射 | 第26-27页 |
| ·氮气物理吸附脱附 | 第27页 |
| ·透射电子显微镜 | 第27页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第27页 |
| ·氢气程序升温脱附 | 第27-28页 |
| ·费-托合成反应活性测试 | 第28-30页 |
| 第3章 有序中孔碳镶嵌钌费-托合成催化剂结构及其催化性能的研究 | 第30-41页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·催化剂的制备 | 第31-32页 |
| ·SBA-15 材料的制备 | 第31页 |
| ·OMC 载体的制备 | 第31-32页 |
| ·催化剂的制备 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-39页 |
| ·X-射线衍射（XRD） | 第32-33页 |
| ·孔结构参数 | 第33-35页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第35-37页 |
| ·氢气程序升温还原（H2-TPR） | 第37-38页 |
| ·费-托合成（FTS） | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 不同孔径有序中孔碳镶嵌钌费-托合成催化剂催化性能的研究 | 第41-49页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·催化剂的制备 | 第42页 |
| ·不同孔径的SBA-15 分子筛制备 | 第42页 |
| ·催化剂Ru-OMC 的制备 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-48页 |
| ·X-射线衍射（XRD） | 第42-44页 |
| ·孔结构参数 | 第44-45页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第45-46页 |
| ·费-托合成（FTS） | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 有序中孔分子筛负载的钴基费-托合成催化剂催化性能的研究 | 第49-59页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·催化剂的制备 | 第50-51页 |
| ·分子筛SBA-15 的制备 | 第50页 |
| ·复合材料C-SBA-15 的制备 | 第50页 |
| ·有序中孔碳材料OMC 的制备 | 第50页 |
| ·催化剂的制备 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-57页 |
| ·X-射线衍射（XRD） | 第51-53页 |
| ·孔结构参数 | 第53-54页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第54-55页 |
| ·氢气程序升温还原（H2-TPR） | 第55-56页 |
| ·费-托合成（FTS） | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 论文总结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录A 攻读学位期间的学术论文及收录情况 | 第74页 |
