| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·费-托合成反应发展 | 第10-11页 |
| ·费-托合成反应 | 第11-13页 |
| ·费-托合成工艺 | 第13页 |
| ·费-托合成反应器 | 第13-16页 |
| ·固定床反应器 | 第13-14页 |
| ·浆态床反应器 | 第14-15页 |
| ·流化床反应器 | 第15-16页 |
| ·费-托合成催化剂 | 第16-21页 |
| ·活性主金属 | 第16-17页 |
| ·载体 | 第17-20页 |
| ·助剂 | 第20-21页 |
| ·费-托合成反应的机理和产物分布 | 第21-24页 |
| ·选题目的和工作思路 | 第24-25页 |
| 第二章 催化剂的制备、表征及费-托合成活性评价 | 第25-30页 |
| ·催化剂制备 | 第25页 |
| ·试剂 | 第25页 |
| ·催化剂制备方法 | 第25页 |
| ·催化剂表征 | 第25-28页 |
| ·X-射线粉末衍射 | 第25-26页 |
| ·透射电子显微镜 | 第26页 |
| ·固体紫外漫反射 | 第26页 |
| ·固体~(29)Si 魔角旋转核磁共振 | 第26页 |
| ·氮气物理吸附-脱附 | 第26-27页 |
| ·X-射线光电子能谱 | 第27页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第27页 |
| ·氢气程序升温脱附与氧滴定 | 第27-28页 |
| ·费-托合成反应活性测试 | 第28-30页 |
| 第三章 Ce 掺杂KIT-6 中孔分子筛负载的Co 基催化剂的费-托合成性能研究 | 第30-44页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·实验部分 | 第31页 |
| ·载体制备 | 第31页 |
| ·催化剂制备 | 第31页 |
| ·催化剂的表征和费-托合成反应活性评价 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-43页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第32-34页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第34-36页 |
| ·固体紫外漫反射（DRS-UV-vis） | 第36-37页 |
| ·固体~(29)Si 魔角旋转核磁共振（~(29)Si MAS NMR） | 第37-38页 |
| ·氮气物理吸附-脱附 | 第38-40页 |
| ·氢气程序升温还原（H_2-TPR） | 第40-41页 |
| ·氢气程序升温脱附-氧滴定（H_2-TPD and 0_2 titration） | 第41-42页 |
| ·费-托合成催化性能评价 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 La 掺杂KIT-6 中孔分子筛负载的钴基催化剂的费托合成性能研究 | 第44-57页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·实验部分 | 第45页 |
| ·载体制备 | 第45页 |
| ·催化剂制备 | 第45页 |
| ·催化剂的表征和费-托合成反应活性评价 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-56页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD） | 第45-48页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第48-49页 |
| ·X-射线光电子能谱（XPS） | 第49-50页 |
| ·固体~(29)Si 魔角旋转核磁共振（~(29)Si MAS NMR） | 第50-51页 |
| ·氮气物理吸附-脱附 | 第51-54页 |
| ·氢气程序升温还原（H_2-TPR） | 第54-55页 |
| ·氢气程序升温脱附-氧滴定（H_2-TPD and 0_2 titration） | 第55页 |
| ·费-托合成催化性能的评价 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 论文总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-75页 |
| 附录 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第77页 |
