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低电阻率单晶硅微细电火花加工机理和试验研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-11页
第一章 绪论第11-19页
   ·单晶硅的特性及其用途第11-12页
   ·单晶硅加工研究现状第12-17页
     ·体微加工技术第12-13页
     ·表面微加工技术第13-14页
     ·激光加工技术第14-15页
     ·深反应等离子体刻蚀技术第15页
     ·键合技术第15页
     ·微细电火花加工技术第15-17页
   ·课题研究意义及主要内容第17-19页
     ·研究意义第17-18页
     ·主要内容第18-19页
第二章 低电阻率单晶硅微细电火花加工机理第19-32页
   ·加工原理和特点第19-22页
     ·基本原理第19-21页
     ·单脉冲蚀除模型第21-22页
   ·极间电场数值模拟第22-25页
     ·物理模型第22-23页
     ·模拟结果与分析第23-25页
   ·极间温度场数值模拟第25-31页
     ·物理模型第25-26页
     ·数学模型第26-28页
     ·有限元仿真过程第28-29页
     ·模拟结果及分析第29-31页
   ·小结第31-32页
第三章 低电阻率单晶硅微细电火花加工试验系统第32-40页
   ·试验系统的介绍第32-37页
     ·设计思想第32页
     ·机械系统第32-35页
     ·控制系统第35-37页
   ·试验方案第37-39页
   ·小结第39-40页
第四章 工艺试验研究第40-52页
   ·电极对的选择和微细工具电极的制作第40-42页
     ·电极对的选择第40页
     ·工具电极的制作第40-42页
   ·工作液的选择和加工试验研究第42-47页
     ·工作液的介绍第42-43页
     ·低电阻率单晶硅在复合工作液中的极化曲线第43-45页
     ·微小孔加工试验第45-47页
   ·电参数对材料去除率的影响第47-51页
     ·峰值电压对材料去除率的影响第48页
     ·峰值电流对材料去除率的影响第48-50页
     ·加工极性对材料去除率的影响第50-51页
   ·小结第51-52页
第五章 总结与展望第52-54页
   ·全文总结第52页
   ·研究展望第52-54页
参考文献第54-57页
致谢第57-58页
在学期间的研究成果及发表的学术论文第58-59页
附录第59页

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