| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-13页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·本课题研究的目的和主要内容 | 第9-10页 |
| ·国内外研究概况 | 第10-11页 |
| ·本课题的意义 | 第11-13页 |
| 2 氧化钒材料的性质及应用 | 第13-18页 |
| ·钒的氧化物 | 第13页 |
| ·VO_2 的晶体结构 | 第13-15页 |
| ·VO_2 的相变特性 | 第15-16页 |
| ·VO_2 薄膜的应用研究 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 3 氧化钒薄膜制备工艺 | 第18-26页 |
| ·薄膜制备方法简介 | 第18-22页 |
| ·磁控溅射制备氧化钒薄膜 | 第22-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 4 氧化钒薄膜性能测试 | 第26-48页 |
| ·薄膜分析方法的的确定 | 第26-32页 |
| ·薄膜测试实验结果与分析 | 第32-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 5 基于VO_2 薄膜的光开关制作 | 第48-56页 |
| ·器件的制备 | 第48-52页 |
| ·外加电场条件下薄膜相变Raman 测试 | 第52-53页 |
| ·加电场条件下薄膜开关性能测试 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 6 总结 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |