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LDMOS的可靠性和温度特性研究

摘要第1-7页
Abstract第7-13页
第一章 绪言第13-23页
   ·功率半导体器件和功率集成电路第13-15页
   ·LDMOS的概述和研究现状第15-18页
   ·论文的选题和主要研究内容第18-19页
 参考文献第19-23页
第二章 高压功率LDMOS器件的设计第23-45页
   ·n沟道LDMOS器件的结构第23-24页
   ·漂移区参数设计第24-37页
     ·RESURF结构第25-29页
     ·漂移区长度的设计第29-30页
     ·漂移区掺杂浓度和结深的设计第30-37页
   ·场极板长度的设计第37-39页
   ·氧化层厚度的设计第39-42页
   ·栅极及沟道参数的设计第42-43页
   ·本章小结第43-44页
 参考文献第44-45页
第三章 LDMOS电学参数的分析与建模第45-77页
   ·LDMOS的电流模型第45-54页
     ·V_(DS)较小时的沟道电流第45-48页
     ·沟道饱和电流第48-50页
     ·LDMOS漂移区电流模型第50-53页
     ·LDMOS的全电流公式第53-54页
   ·LDMOS导通电阻的解析模型第54-63页
     ·沟道区的线性电阻第54-55页
     ·高阻漂移区电阻第55-60页
     ·具有电流集边效应的体电阻第60-61页
     ·高阻漂移区总电阻第61-63页
   ·LDMOS电容的分析和计算第63-73页
     ·MOS和LDMOS器件电容的比较第63-65页
     ·LDMOS的栅源电容第65-68页
     ·LDMOS的栅漏电容第68-70页
     ·LDMOS的漏源电容第70-71页
     ·结构和工艺参数对栅漏电容的影响第71-73页
   ·本章小结第73-74页
 参考文献第74-77页
第四章 LDMOS的可靠性研究第77-105页
   ·LDMOS击穿电压分析第77-82页
     ·有场极板的LDMOS的击穿电压原理第77-78页
     ·无穷大场极板的击穿电压第78-81页
     ·有限场极板的情况第81-82页
   ·LDMOS的宏模型第82-94页
     ·V_(DS)-R特性的数值模拟和分析第83-87页
     ·LDMOS宏模型的建立第87-88页
     ·LDMOS宏模型的应用第88-91页
     ·LDMOS本征功耗的计算第91-94页
   ·LDMOS安全工作区第94-102页
     ·LDMOS的短期SOA第95-101页
     ·LDMOS的长期SOA第101-102页
   ·本章小结第102-103页
 参考文献第103-105页
第五章 LDMOS温度特性的研究第105-131页
   ·阈值电压温度系数的研究第105-113页
     ·LDMOS的表面势与温度的关系第106-108页
     ·LDMOS阈值电压的温度系数第108-110页
     ·计算结果对比第110-112页
     ·LDMOS阈值电压温度系数的讨论第112-113页
   ·迁移率的温度特性第113-114页
   ·饱和电流的温度特性第114-117页
   ·泄漏电流的温度特性第117-120页
   ·导通电阻的温度特性第120-126页
     ·LDMOS的高温等效电路模型第120-122页
     ·等效电路模型参数与温度的关系第122-123页
     ·LDMOS导通电阻和温度的关系第123-126页
   ·击穿电压的温度特性第126-128页
   ·本章小结第128-129页
 参考文献第129-131页
第六章 总结与展望第131-133页
插图清单第133-137页
表格清单第137-138页
攻读学位期间发表的学术论文及参加科研工作情况第138-139页
致谢第139页

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