| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·磁记录物理及磁记录介质概述 | 第9-17页 |
| ·磁记录的物理简介 | 第9-11页 |
| ·高密度磁记录材料对记录介质的磁特性的要求 | 第11-17页 |
| ·化学镀磁记录薄膜概述 | 第17-21页 |
| ·化学镀的发展简史 | 第17-18页 |
| ·化学镀层的生长机理 | 第18-19页 |
| ·化学镀钴 | 第19页 |
| ·化学镀多元合金 | 第19-20页 |
| ·化学镀材料的磁性能 | 第20-21页 |
| 第二章 薄膜的制备和性能测试 | 第21-32页 |
| ·实验原理 | 第21-24页 |
| ·化学镀Ni-P、Co-P、Ni-Co-P合金的反应机理 | 第21-22页 |
| ·化学镀Ni-P、Ni-Co-P合金的热力学分析 | 第22-24页 |
| ·薄膜的制备 | 第24-27页 |
| ·基片的选取 | 第24-25页 |
| ·铝基化学镀前处理工艺 | 第25-26页 |
| ·实验所用试剂 | 第26页 |
| ·镀液的配置 | 第26-27页 |
| ·薄膜的厚度 | 第27页 |
| ·薄膜的热处理过程 | 第27页 |
| ·实验所用仪器 | 第27-32页 |
| ·化学镀实验装置 | 第27页 |
| ·真空热处理实验装置 | 第27-29页 |
| ·振动样品磁强计(VSM)测量薄膜的磁性能 | 第29-30页 |
| ·X射线衍射仪(XRD)测量薄膜的结构 | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜测量薄膜的成分 | 第31-32页 |
| 第三章 制备工艺对化学镀Co-Ni-P磁性薄膜磁性能的影响 | 第32-39页 |
| ·缓冲剂浓度对Co-Ni-P磁性薄膜磁性能的影响 | 第32-35页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验 | 第32页 |
| ·结果与分析 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| ·还原剂浓度对薄膜磁性能的影响 | 第35-39页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·实验 | 第35页 |
| ·结果与分析 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-39页 |
| 第四章 热处理对化学镀Ni-P/Co-Ni-P磁性薄膜磁性能的影响 | 第39-47页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·实验结果和分析 | 第40-45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 第五章 结论 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
