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CMOS集成电路的抗辐射分析及设计

1 前言第1-15页
 1.1 研究背景第8-12页
 1.2 课题来源第12页
 1.3 课题的研究内容和技术要点第12-13页
 1.4 论文的内容安排第13-15页
2 门阵列总剂量效应(TID)和单粒子闩锁效应(SEL)的加固设计第15-34页
 2.1 TID效应和SEL效应第15-16页
 2.2 门阵列基本单元的加固设计第16-25页
 2.3 宏单元的设计第25-27页
 2.4 I/O端口的设计第27-29页
 2.5 总剂量效应的SPICE模拟第29-34页
  2.5.1 辐射效应模拟分析的基本方法和内容第30页
  2.5.2 总剂量效应的模型化第30-34页
3 SRAM的SEU加固设计第34-46页
 3.1 单粒子翻转效应(SEU)第34-36页
 3.2 SEU的电路加固设计第36-46页
  3.2.1 单粒子翻转效应(SEU)的敏感结点第36-39页
  3.2.2 SRAM的抗单粒子翻转设计原理第39-41页
  3.2.3 加固设计的双互锁存储单元(DICE)第41-46页
4 样片的设计及测试结果第46-58页
 4.1 脉冲产生器芯片的设计第46-51页
 4.2 测试结果第51-58页
5 结论第58-60页
附录第60-64页
参考文献第64-71页
研究生期间发表的论文第71-72页
致谢第72页

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