| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 Cu_2O的基本性质及制备 | 第11-13页 |
| 1.3 纳米材料的形状以及尺寸控制与生长理论 | 第13-15页 |
| 1.4 Cu_2O的应用 | 第15-17页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第17-18页 |
| 2 电沉积氧化亚铜的成核与生长研究 | 第18-30页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 实验部分 | 第18-20页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第18-19页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第19页 |
| 2.2.3 Cu_2O薄膜的表征 | 第19页 |
| 2.2.4 Cu_2O电化学测试实验 | 第19-20页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第20-28页 |
| 2.3.1 循环伏安曲线 | 第20页 |
| 2.3.2 扫描速率对循环伏安曲线的影响 | 第20-22页 |
| 2.3.3 阶跃曲线 | 第22-24页 |
| 2.3.4 成核生长机理对Cu_2O晶体结构的影响分析 | 第24-25页 |
| 2.3.5 成核生长机理对Cu_2O表面形貌的影响分析 | 第25-26页 |
| 2.3.6 成核生长机理对Cu_2O光学性能的影响分析 | 第26页 |
| 2.3.7 成核生长机理对Cu_2O电化学性能的影响分析 | 第26-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 3 Cu_2O薄膜的制备及性能研究 | 第30-46页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 Cu_2O薄膜的制备及表征 | 第30-40页 |
| 3.2.2 实验部分 | 第30-33页 |
| 3.2.2.1 实验试剂及仪器 | 第30-31页 |
| 3.2.2.2 实验步骤 | 第31-32页 |
| 3.2.2.3 光催化测试实验 | 第32页 |
| 3.2.2.4 电化学测试实验 | 第32-33页 |
| 3.2.2.5 Cu_2O薄膜的表征 | 第33页 |
| 3.2.3 制备条件对Cu_2O薄膜的影响 | 第33-36页 |
| 3.2.3.1 电解液浓度的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.3.2 沉积电位的影响 | 第34页 |
| 3.2.3.3 pH的影响 | 第34-36页 |
| 3.2.4 Cu_2O薄膜的表征 | 第36-38页 |
| 3.2.4.1 Cu_2O薄膜的XRD分析 | 第36页 |
| 3.2.4.2 Cu_2O薄膜的UV-Vis分析 | 第36-37页 |
| 3.2.4.3 Cu_2O薄膜的SEM分析 | 第37-38页 |
| 3.2.5 Cu_2O薄膜的电学性质分析 | 第38-39页 |
| 3.2.6 Cu_2O薄膜的光电化学性质 | 第39-40页 |
| 3.3 Cu_2O薄膜电催化氧化葡萄糖性质的研究 | 第40-44页 |
| 3.3.1 实验部分 | 第40-41页 |
| 3.3.1.1 试剂与仪器 | 第40-41页 |
| 3.3.1.2 实验步骤 | 第41页 |
| 3.3.1.3 Cu_2O薄膜对葡萄糖响应性 | 第41页 |
| 3.3.1.4 安培响应曲线 | 第41页 |
| 3.3.1.5 Cu_2O薄膜对葡萄糖响应稳定性 | 第41页 |
| 3.3.2 结果与讨论 | 第41-44页 |
| 3.3.2.1 不同Cu_2O薄膜电化学氧化葡萄糖的性能比较 | 第41-42页 |
| 3.3.2.2 Cu_2O薄膜电极的安培响应 | 第42-43页 |
| 3.3.2.3 Cu_2O薄膜特异性和稳定性 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 4 Cu_2O复合薄膜的光电性能研究 | 第46-62页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 P-N Cu_2O薄膜的制备及光催化性能研究 | 第46-54页 |
| 4.2.1 实验部分 | 第46-49页 |
| 4.2.1.1 实验试剂及仪器 | 第46-47页 |
| 4.2.1.2 P-N Cu_2O薄膜的制备 | 第47-48页 |
| 4.2.1.3 P-N Cu_2O薄膜的表征 | 第48页 |
| 4.2.1.4 P-N Cu_2O薄膜电化学测试实验 | 第48页 |
| 4.2.1.5 光催化测试实验 | 第48-49页 |
| 4.2.2 结果与讨论 | 第49-54页 |
| 4.2.2.1 P-N Cu_2O薄膜XRD分析 | 第49页 |
| 4.2.2.2 P-N Cu_2O薄膜SEM分析 | 第49-50页 |
| 4.2.2.3 P-N Cu_2O薄膜UV-Vis分析 | 第50-51页 |
| 4.2.2.4 P-N Cu_2O薄膜光电学性质分析 | 第51-52页 |
| 4.2.2.5 P-N Cu_2O薄膜光催化性能分析 | 第52-53页 |
| 4.2.2.6 P-N Cu_2O薄膜对氯氟吡氧乙酸降解性能研究 | 第53-54页 |
| 4.3 Cu_2O/ZnO薄膜制备及光催化性能研究 | 第54-61页 |
| 4.3.1 实验部分 | 第55-57页 |
| 4.3.1.1 试剂与仪器 | 第55-56页 |
| 4.3.1.2 Cu_2O/ZnO薄膜的制备 | 第56页 |
| 4.3.1.3 Cu_2O/ZnO薄膜的表征 | 第56页 |
| 4.3.1.4 光催化测试实验 | 第56-57页 |
| 4.3.2 结果与讨论 | 第57-61页 |
| 4.3.2.1 Cu_2O/ZnO薄膜XRD分析 | 第57页 |
| 4.3.2.2 Cu_2O/ZnO薄膜UV-Vis分析 | 第57-58页 |
| 4.3.2.3 Cu_2O/ZuO薄膜SEM分析 | 第58-59页 |
| 4.3.2.4 Cu_2O/ZnO薄膜光催化性能分析 | 第59-60页 |
| 4.3.2.5 Cu_2O/ZnO薄膜对氯氟吡氧乙酸降解性能研究 | 第60-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 5 结论 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
