| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 1 引言 | 第15-22页 |
| 1.1 选题背景及研究意义 | 第15-16页 |
| 1.2 国内外文献综述 | 第16-19页 |
| 1.2.1 TNT废水处理研究现状 | 第16-17页 |
| 1.2.2 印染废水处理研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 本文研究内容及技术路线 | 第19-22页 |
| 1.3.1 研究内容 | 第19-21页 |
| 1.3.2 技术路线 | 第21-22页 |
| 2 基础理论研究 | 第22-33页 |
| 2.1 半导体光催化氧化技术概述 | 第22-28页 |
| 2.1.1 催化原理 | 第22-23页 |
| 2.1.2 影响光催化活性的因素 | 第23-24页 |
| 2.1.3 半导体光催化性能的提高途径 | 第24-27页 |
| 2.1.4 半导体光催化技术的应用 | 第27-28页 |
| 2.2 银基半导体光催化剂的研究进展 | 第28-30页 |
| 2.3 光催化材料的制备及表征方法 | 第30-33页 |
| 2.3.1 光催化剂的制备方法 | 第30-31页 |
| 2.3.2 光催化剂的表征方法 | 第31-33页 |
| 3 实验药品及研究方法 | 第33-40页 |
| 3.1 实验药品 | 第33-34页 |
| 3.2 实验仪器 | 第34-35页 |
| 3.3 表征方法 | 第35-36页 |
| 3.3.1 物相、元素及表面价态测试 | 第35页 |
| 3.3.2 形貌结构测试 | 第35页 |
| 3.3.3 比表面积-孔径测试 | 第35页 |
| 3.3.4 光吸收性质 | 第35-36页 |
| 3.4 光催化性能评价方法 | 第36-40页 |
| 3.4.1 实验反应装置 | 第36页 |
| 3.4.2 光催化降解性能研究 | 第36-39页 |
| 3.4.3 光催化稳定性性能测试 | 第39页 |
| 3.4.4 自由基捕获实验 | 第39-40页 |
| 4 Ag修饰Bi_2GeO_5光催化剂的制备及光催化性能研究 | 第40-57页 |
| 4.1 前言 | 第40-41页 |
| 4.2 实验部分 | 第41页 |
| 4.2.1 Ag修饰Bi_2GeO_5光催化剂的制备 | 第41页 |
| 4.2.2 Ag修饰Bi_2GeO_5的表征 | 第41页 |
| 4.2.3 Ag修饰Bi_2GeO_5光催化性能评价 | 第41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-56页 |
| 4.3.1 花状Ag修饰Bi_2GeO_5的形成机理 | 第41-43页 |
| 4.3.2 Ag修饰Bi_2GeO_5的相结构分析与形貌 | 第43-44页 |
| 4.3.3 Ag修饰Bi_2GeO_5的形貌结构分析 | 第44-46页 |
| 4.3.4 Ag修饰Bi_2GeO_5表面化学形态分析 | 第46-48页 |
| 4.3.5 Ag修饰Bi_2GeO_5光学性质分析 | 第48-49页 |
| 4.3.6 Ag修饰Bi_2GeO_5比表面积与孔结构分析 | 第49-50页 |
| 4.3.7 Ag修饰Bi_2GeO_5光催化降解TNT废水实验 | 第50-52页 |
| 4.3.8 Ag修饰Bi_2GeO_5光催化降解模拟染料实验 | 第52-54页 |
| 4.3.9 Ag修饰Bi_2GeO_5自由基捕获实验 | 第54-55页 |
| 4.3.10 Ag修饰Bi_2GeO_5光催化机理分析 | 第55-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 5 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4的制备及光催化性能研究 | 第57-74页 |
| 5.1 前言 | 第57-58页 |
| 5.2 实验部分 | 第58-60页 |
| 5.2.1 ZnCo_2O_4的合成 | 第58-59页 |
| 5.2.2 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4的合成 | 第59页 |
| 5.2.3 催化剂的表征 | 第59页 |
| 5.2.4 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4光催化性能评价 | 第59-60页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第60-73页 |
| 5.3.1 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4的相结构分析 | 第60-61页 |
| 5.3.2 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4的形貌结构分析 | 第61-63页 |
| 5.3.3 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4表面化学形态分析 | 第63-65页 |
| 5.3.4 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4光学性质分析 | 第65-66页 |
| 5.3.5 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4比表面积与孔结构分析 | 第66-67页 |
| 5.3.6 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4光催化降解TNT废水实验 | 第67-69页 |
| 5.3.7 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4光催化降解模拟染料及稳定性分析 | 第69-71页 |
| 5.3.8 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4自由基捕获实验 | 第71页 |
| 5.3.9 Ag@AgCl/ZnCo_2O_4光催化机理分析 | 第71-73页 |
| 5.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 6 Ag@AgI/TiO_2材料的制备及光催化性能研究 | 第74-90页 |
| 6.1 前言 | 第74页 |
| 6.2 实验部分 | 第74-76页 |
| 6.2.1 TiO_2纳米材料的制备 | 第74-75页 |
| 6.2.2 Ag@AgI/TiO_2光催化剂的制备 | 第75页 |
| 6.2.3 催化剂的表征 | 第75页 |
| 6.2.4 Ag@AgI/TiO_2光催化性能评价 | 第75-76页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第76-89页 |
| 6.3.1 Ag@AgI/TiO_2的相结构分析 | 第76-77页 |
| 6.3.2 Ag@AgI/TiO_2的形貌结构分析 | 第77-78页 |
| 6.3.3 Ag@AgI/TiO_2表面化学形态分析 | 第78-81页 |
| 6.3.4 Ag@AgI/TiO_2光学性质分析 | 第81-82页 |
| 6.3.5 Ag@AgI/TiO_2光催化降解TNT废水实验 | 第82-84页 |
| 6.3.6 Ag@AgI/TiO_2光催化降解模拟染料及稳定性分析 | 第84-86页 |
| 6.3.7 Ag@AgI/TiO_2光催化机理分析 | 第86-89页 |
| 6.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 7 Ag@AgBr/Cu_2O的制备及光催化性能研究 | 第90-106页 |
| 7.1 前言 | 第90页 |
| 7.2 实验部分 | 第90-92页 |
| 7.2.1 水热法制备Cu_2O | 第90页 |
| 7.2.2 Ag@AgBr/Cu_2O复合物的制备 | 第90-91页 |
| 7.2.3 催化剂的表征 | 第91页 |
| 7.2.4 Ag@AgBr/Cu_2O光催化性能评价 | 第91-92页 |
| 7.3 结果与讨论 | 第92-105页 |
| 7.3.1 Ag@AgBr/Cu_2O的相结构分析 | 第92-93页 |
| 7.3.2 Ag@AgBr/Cu_2O的形貌结构分析 | 第93-94页 |
| 7.3.3 Ag@AgBr/Cu_2O表面化学形态分析 | 第94-97页 |
| 7.3.4 Ag@AgBr/Cu_2O光化学性质分析 | 第97-99页 |
| 7.3.5 Ag@AgBr/Cu_2O光催化降解TNT废水实验 | 第99-100页 |
| 7.3.6 Ag@AgBr/Cu_2O光催化性能评价及稳定性分析 | 第100-103页 |
| 7.3.7 Ag@AgBr/Cu_2O光催化机理分析 | 第103-105页 |
| 7.4 本章小结 | 第105-106页 |
| 8 TiO_2/Ag_3PO_4光催化剂的制备及光催性能研究 | 第106-120页 |
| 8.1 前言 | 第106页 |
| 8.2 实验部分 | 第106-108页 |
| 8.2.1 水热法制备纳米TiO_2 | 第106-107页 |
| 8.2.2 TiO_2/Ag_3PO_4光催化剂的制备 | 第107页 |
| 8.2.3 催化剂的表征 | 第107页 |
| 8.2.4 TiO_2/Ag_3PO_4光催化性能评价 | 第107-108页 |
| 8.3 结果与讨论 | 第108-119页 |
| 8.3.1 TiO_2/Ag_3PO_4的相结构分析 | 第108-109页 |
| 8.3.2 TiO_2/Ag_3PO_4的形貌结构分析 | 第109-111页 |
| 8.3.3 TiO_2/Ag_3PO_4表面化学形态分析 | 第111-113页 |
| 8.3.4 TiO_2/Ag_3PO_4光学性质分析 | 第113-114页 |
| 8.3.5 TiO_2/Ag_3PO_4光催化降解TNT废水实验 | 第114-115页 |
| 8.3.6 TiO_2/Ag_3PO_4光催化性能和稳定性评价及光催化机理分析 | 第115-119页 |
| 8.4 本章小结 | 第119-120页 |
| 9 研究结论与展望 | 第120-124页 |
| 9.1 研究结论 | 第120-122页 |
| 9.2 特色与创新性 | 第122页 |
| 9.3 展望与建议 | 第122-124页 |
| 参考文献 | 第124-136页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第136-138页 |
| 致谢 | 第138页 |
