| 摘要 | 第13-15页 |
| Abstract | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第18-48页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第18-20页 |
| 1.2 合成气制低碳混合醇研究现状 | 第20-34页 |
| 1.2.1 国内外合成低碳醇工艺及对比 | 第20-22页 |
| 1.2.2 低碳混合醇反应热力学 | 第22-25页 |
| 1.2.3 催化剂体系分类 | 第25-30页 |
| 1.2.3.1 贵金属系催化剂 | 第25-26页 |
| 1.2.3.2 改性甲醇合成催化剂 | 第26-27页 |
| 1.2.3.3 Mo基催化剂 | 第27-28页 |
| 1.2.3.4 改性F-T合成催化剂 | 第28-30页 |
| 1.2.4 铜钴基催化剂合成低碳醇反应机理 | 第30-32页 |
| 1.2.5 铜钴基催化剂活性相的探讨 | 第32-34页 |
| 1.3 新型高稳定性甲醇/二甲醚催化体系的研究 | 第34-38页 |
| 1.3.1 传统的基于铜基的甲醇/二甲醚催化体系 | 第34-35页 |
| 1.3.2 PdZn催化体系 | 第35-36页 |
| 1.3.3 反应条件对甲醇/二甲醚合成反应的影响 | 第36-38页 |
| 1.4 本文选题依据及研究内容 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-48页 |
| 第二章 实验部分 | 第48-56页 |
| 2.1 实验原料与仪器 | 第48-49页 |
| 2.1.1 实验试剂与气体 | 第48-49页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第49页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第49-51页 |
| 2.2.1 浸渍法制备CuCo/Mo-SBA-15催化剂 | 第49-50页 |
| 2.2.1.1 载体短孔道SBA-15的制备 | 第49-50页 |
| 2.2.1.2 两步浸渍法制备CuCo/Mo-SBA-15催化剂 | 第50页 |
| 2.2.2 水热法制备CuCo_2O_4尖晶石相催化剂 | 第50-51页 |
| 2.3 催化剂的活性评价 | 第51-53页 |
| 2.3.1 催化剂评价装置 | 第51-52页 |
| 2.3.2 产物分析与计算 | 第52-53页 |
| 2.4 催化剂表征手段 | 第53-55页 |
| 2.4.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第53页 |
| 2.4.2 X射线荧光光谱(XRF) | 第53页 |
| 2.4.3 比表面积测定(BET) | 第53-54页 |
| 2.4.4 程序升温还原(H_2-TPR) | 第54页 |
| 2.4.5 扫描电镜(SEM) | 第54页 |
| 2.4.6 透射电镜(TEM) | 第54页 |
| 2.4.7 程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第三章 助剂和制备方法对CuCo基催化剂性能的影响 | 第56-71页 |
| 3.1 引言 | 第56-57页 |
| 3.2 20wt%CuCo/Mo-SBA-15催化剂性能评价 | 第57-62页 |
| 3.2.1 助剂Mo对催化剂性能的影响 | 第57页 |
| 3.2.2 助剂Mo对载体SBA-15的影响 | 第57-59页 |
| 3.2.3 不同Co/Cu摩尔比对催化剂性能的影响 | 第59-60页 |
| 3.2.4 不同Co/Cu摩尔比对催化剂结构的影响 | 第60-62页 |
| 3.2.4.1 XRD表征结果 | 第60-61页 |
| 3.2.4.2 H_2-TPR表征结果 | 第61-62页 |
| 3.3 CuCo_2O_4催化剂性能评价 | 第62-68页 |
| 3.3.1 不同反应温度对催化剂性能的影响 | 第62-63页 |
| 3.3.2 CuCo_2O_4尖晶石相制备条件的探索 | 第63-67页 |
| 3.3.2.1 CuCo_2O_4催化剂的XRD表征 | 第63-65页 |
| 3.3.2.2 Co/Cu摩尔比的影响 | 第65页 |
| 3.3.2.3 水热温度的影响 | 第65-66页 |
| 3.3.2.4 水热时间的影响 | 第66-67页 |
| 3.3.3 还原态CuCo_2O_4催化剂的XRD图 | 第67页 |
| 3.3.4 CuCo_2O_4催化剂的H_2-TPR表征 | 第67-68页 |
| 3.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第四章 Pd/ZnAl_2O_4催化剂上CO加氢生成甲醇和DME的研究 | 第71-98页 |
| 4.1 引言 | 第71-72页 |
| 4.2 催化剂的制备 | 第72页 |
| 4.2.1 Pd/ZnAl_2O_4催化剂的制备 | 第72页 |
| 4.2.2 Pd/ZnO/Al_2O_3催化剂的制备 | 第72页 |
| 4.3 Pd/ZnAl_2O_4催化剂的活性评价 | 第72-86页 |
| 4.3.1 反应条件对Pd/ZnAl_2O_4催化剂性能的影响 | 第73-78页 |
| 4.3.2 还原温度对Pd/ZnAl_2O_4催化剂性能的影响 | 第78-82页 |
| 4.3.3 Pd负载量对催化剂性能的影响 | 第82-86页 |
| 4.3.3.1 催化剂还原温度为350℃条件下 | 第83-84页 |
| 4.3.3.2 催化剂还原温度为500℃条件下 | 第84-86页 |
| 4.4 Pd/ZnAl_2O_4催化剂的物化性能表征 | 第86-95页 |
| 4.4.1 催化剂的物理性质表征 | 第87-88页 |
| 4.4.2 催化剂的XRD表征 | 第88-91页 |
| 4.4.3 催化剂的H_2-TPR表征 | 第91-92页 |
| 4.4.4 催化剂的NH_3-TPD表征 | 第92-93页 |
| 4.4.5 催化剂的TEM表征 | 第93-95页 |
| 4.5 本章小结 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-98页 |
| 第五章 Pd/ZnAl_2O_4催化剂与Pd/ZnO/Al_2O_3催化剂性能对比 | 第98-108页 |
| 5.1 引言 | 第98页 |
| 5.2 2.0wt%Pd/ZnAl_2O_4与2.0wt%Pd/ZnO/Al_2O_3催化剂性能对比 | 第98-101页 |
| 5.2.1 催化剂还原温度为350℃ | 第99-100页 |
| 5.2.2 催化剂还原温度为500℃ | 第100-101页 |
| 5.3 7.5wt%Pd/ZnAl_2O_4与7.5wt%Pd/ZnO/Al_2O_3催化剂性能对比 | 第101-102页 |
| 5.4 Pd/ZnAl_2O_4与Pd/ZnO/Al_2O_3物性表征对比 | 第102-106页 |
| 5.4.1 两者催化剂XRD表征 | 第102-104页 |
| 5.4.2 两者催化剂H_2-TPR表征 | 第104-105页 |
| 5.4.3 两者催化剂NH_3-TPD表征 | 第105-106页 |
| 5.5 本章小结 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-108页 |
| 第六章 结论与建议 | 第108-110页 |
| 硕士期间发表论文 | 第110-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
