| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 二氧化钒(VO_2)简介 | 第8-10页 |
| 1.1.1 VO_2的晶格结构 | 第8-9页 |
| 1.1.2 VO_2薄膜的典型性质 | 第9-10页 |
| 1.2 光子晶体的概述 | 第10-12页 |
| 1.2.1 光子晶体概念和原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 光子晶体的特性 | 第11-12页 |
| 1.2.3 自组装法制备光子晶体结构 | 第12页 |
| 1.3 超材料的概述 | 第12-15页 |
| 1.3.1 复合胶体晶体的光学性质 | 第13-14页 |
| 1.3.2 超材料吸收器的研究 | 第14-15页 |
| 1.4 本文的研究目的和内容 | 第15-18页 |
| 第2章 基本制备方法及分析方法 | 第18-28页 |
| 2.1 VO_2薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
| 2.1.1 溶胶凝胶法 | 第18-19页 |
| 2.1.2 反应蒸发法 | 第19-20页 |
| 2.1.3 化学气相沉积法 | 第20页 |
| 2.1.4 溅射镀膜法 | 第20-22页 |
| 2.2 单层分散SiO_2胶体球阵列的制备工艺 | 第22-24页 |
| 2.2.1 溶剂蒸发法 | 第22-23页 |
| 2.2.2 自组装方法 | 第23-24页 |
| 2.3 实验设备的介绍 | 第24-25页 |
| 2.3.1 磁控溅射镀膜机 | 第24页 |
| 2.3.2 快速热处理炉 | 第24-25页 |
| 2.4 分析手段和测试方法 | 第25-28页 |
| 2.4.1 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第26页 |
| 2.4.2 X射线衍射技术(XRD) | 第26页 |
| 2.4.3 紫外可见光分光光度计 | 第26-28页 |
| 第3章 VO_2/SiO_2复合光子晶体结构的制备及其光学特性研究 | 第28-42页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 VO_2/SiO_2复合结构的制备 | 第29-32页 |
| 3.2.1 蓝宝石基底的准备 | 第29-30页 |
| 3.2.2 制备单层的SiO_2纳米球阵列 | 第30-31页 |
| 3.2.3 磁控溅射钒金属薄膜 | 第31页 |
| 3.2.4 快速热处理形成二维纳米VO_2/SiO_2复合结构 | 第31-32页 |
| 3.3 二维纳米VO_2/SiO_2复合结构的表面形貌及成分表征 | 第32-35页 |
| 3.4 二维纳米VO_2/SiO_2复合结构的光谱特性 | 第35-40页 |
| 3.4.1 复合结构和单层二氧化钒薄膜结构光学特性对比 | 第35-36页 |
| 3.4.2 不同氧气流量下对复合结构光学特性的影响及原理分析研究 | 第36-39页 |
| 3.4.3 不同退火时间对复合结构光学特性的影响研究 | 第39-40页 |
| 3.5 小结 | 第40-42页 |
| 第4章 近红外可调的多宽带吸收器 | 第42-52页 |
| 4.1 超材料吸收器 | 第42-43页 |
| 4.2 增加金膜反射层的复合结构 | 第43-48页 |
| 4.2.1 吸收器复合结构的制备 | 第43-45页 |
| 4.2.2 吸收器的形貌结构特性 | 第45-46页 |
| 4.2.3 吸收器的光学特性 | 第46-48页 |
| 4.3 不同厚度的二氧化钒对吸收特性的影响 | 第48-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第5章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 5.1 总结 | 第52-53页 |
| 5.2 展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 发表的论文和参加科研情况说明 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
