氮化铜和铜基底上化学气相沉积法制备石墨研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 石墨的概述及研究进展 | 第10-14页 |
| 1.2.1 石墨的基本结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 石墨的性质 | 第11-12页 |
| 1.2.3 石墨的潜在应用 | 第12-13页 |
| 1.2.4 石墨的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.3 氮化铜的概述及研究进展 | 第14-16页 |
| 1.3.1 氮化铜的基本结构 | 第14页 |
| 1.3.2 氮化铜的性质 | 第14-15页 |
| 1.3.3 氮化铜的潜在应用 | 第15页 |
| 1.3.4 氮化铜的研究进展 | 第15-16页 |
| 1.4 本文选题意义及研究内容 | 第16-17页 |
| 1.4.1 选题意义 | 第16页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 实验原理及表征方法 | 第17-27页 |
| 2.1 氮化铜常见的制备方法 | 第17页 |
| 2.2 石墨常见的制备方法 | 第17-19页 |
| 2.2.1 微机械分离法 | 第17-18页 |
| 2.2.2 取向附生法 | 第18页 |
| 2.2.3 外延生长法 | 第18页 |
| 2.2.4 氧化石墨还原法 | 第18页 |
| 2.2.5 液相剥离法 | 第18-19页 |
| 2.2.6 电化学方法 | 第19页 |
| 2.2.7 化学气相沉积法 | 第19页 |
| 2.3 本论文涉及的制备方法 | 第19-22页 |
| 2.3.1 本论文氮化铜和铜薄膜采用的制备方法 | 第20页 |
| 2.3.2 本论文合成石墨采用的制备方法 | 第20-22页 |
| 2.4 本论文涉及的表征手段 | 第22-25页 |
| 2.4.1 拉曼光谱 | 第22-23页 |
| 2.4.2 X 射线衍射 | 第23-24页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜 | 第24页 |
| 2.4.4 透射电子显微镜 | 第24页 |
| 2.4.5 X 射线能谱仪 | 第24-25页 |
| 2.4.6 四探针电阻仪 | 第25页 |
| 2.4.7 显微硬度仪 | 第25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 氮化铜和铜薄膜的制备、处理及表征分析 | 第27-37页 |
| 3.1 选择氮化铜薄膜做基底的意义 | 第27页 |
| 3.2 氮化铜和铜薄膜制备的实验设计 | 第27-28页 |
| 3.3 磁控溅射法制备氮化铜和铜薄膜 | 第28-31页 |
| 3.3.1 实验器材及原料准备 | 第28-29页 |
| 3.3.2 氮化铜和铜薄膜的制备过程 | 第29-31页 |
| 3.4 氮化铜的热稳定性研究 | 第31-32页 |
| 3.4.1 研究氮化铜热稳定性的意义 | 第31页 |
| 3.4.2 氮化铜退火实验 | 第31-32页 |
| 3.5 氮化铜和铜薄膜的表征及分析 | 第32-36页 |
| 3.5.1 氮化铜和铜薄膜的 XRD 表征及分析 | 第33页 |
| 3.5.2 氮化铜薄膜的 EDS 表征及分析 | 第33-35页 |
| 3.5.3 氮化铜和铜薄膜的 SEM 表征及分析 | 第35-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 低温下石墨材料的制备及表征 | 第37-47页 |
| 4.1 低温下石墨材料制备的实验设计 | 第37-38页 |
| 4.1.1 选择 CVD 法制备的意义 | 第37页 |
| 4.1.2 碳源的选择 | 第37页 |
| 4.1.3 温度的选择 | 第37-38页 |
| 4.1.4 其他实验条件的选择 | 第38页 |
| 4.2 CVD法制备石墨材料 | 第38-40页 |
| 4.2.1 实验器材及原料准备 | 第38-39页 |
| 4.2.2 石墨材料的制备过程 | 第39-40页 |
| 4.3 石墨材料的表征及分析 | 第40-45页 |
| 4.3.1 样品的拉曼表征及分析 | 第40-41页 |
| 4.3.2 样品的 SEM 表征及分析 | 第41-43页 |
| 4.3.3 样品的 TEM 表征及分析 | 第43-44页 |
| 4.3.4 样品电阻率和硬度的表征及分析 | 第44-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 高温下石墨材料的制备及表征 | 第47-54页 |
| 5.1 高温下石墨材料制备的实验设计 | 第47页 |
| 5.2 CVD法制备石墨材料 | 第47-48页 |
| 5.2.1 实验器材及原料准备 | 第47页 |
| 5.2.2 石墨材料的制备过程 | 第47-48页 |
| 5.3 石墨材料的表征及分析 | 第48-52页 |
| 5.3.1 样品的拉曼表征及分析 | 第48-49页 |
| 5.3.2 样品的 SEM 表征及分析 | 第49-51页 |
| 5.3.3 样品的 TEM 表征及分析 | 第51-52页 |
| 5.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第六章 铜薄膜上控制生长碳纳米链的探究实验 | 第54-58页 |
| 6.1 本探究实验的意义 | 第54页 |
| 6.2 控制碳链长度合成的实验设计 | 第54-55页 |
| 6.3 制备过程 | 第55页 |
| 6.3.1 实验器材及原料准备 | 第55页 |
| 6.3.2 碳链合成的制备过程 | 第55页 |
| 6.4 表征及分析 | 第55-57页 |
| 6.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第七章 总结与展望 | 第58-61页 |
| 7.1 总结 | 第58-59页 |
| 7.2 展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-68页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第68-69页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
