电子级四氯化硅精馏系统的模拟节能与工艺研究
| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 符号说明 | 第15-17页 |
| 第一章 文献综述 | 第17-35页 |
| 1.1 课题背景 | 第17-18页 |
| 1.2 化工流程模拟 | 第18-21页 |
| 1.2.1 流程模拟优化简介 | 第18-20页 |
| 1.2.2 流程模拟软件介绍 | 第20-21页 |
| 1.3 稳态模拟模型及算法 | 第21-24页 |
| 1.3.1 平衡级模型 | 第21-23页 |
| 1.3.2 非平衡级模型 | 第23-24页 |
| 1.4 精馏动态控制模拟 | 第24-28页 |
| 1.4.1 精馏动态计算模型 | 第25页 |
| 1.4.2 精馏塔常见的扰动方式 | 第25-26页 |
| 1.4.3 精馏塔常见控制方案 | 第26-28页 |
| 1.5 精馏节能技术 | 第28-32页 |
| 1.5.1 多效精馏 | 第29-30页 |
| 1.5.2 热泵精馏 | 第30-31页 |
| 1.5.3 热偶精馏 | 第31-32页 |
| 1.6 电子级四氯化硅精馏工艺研究进展 | 第32页 |
| 1.7 课题研究内容和意义 | 第32-35页 |
| 第二章 四氯化硅物系的物性方法选择 | 第35-51页 |
| 2.1 常用的热力学方法 | 第35-38页 |
| 2.2 进料物系性质分析 | 第38-39页 |
| 2.3 热力学一致性检验 | 第39-45页 |
| 2.3.1 检验原理 | 第39-42页 |
| 2.3.2 STC-TCS物系检验 | 第42-45页 |
| 2.4 物性方法的选择 | 第45-49页 |
| 2.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 第三章 四氯化硅精馏工艺流程模拟优化 | 第51-83页 |
| 3.1 四氯化硅精馏工艺流程 | 第51-56页 |
| 3.1.1 工艺要求和流程搭建 | 第51-53页 |
| 3.1.2 操作压力分析 | 第53-56页 |
| 3.2 精馏一塔模拟优化 | 第56-62页 |
| 3.2.1 进料位置的分析 | 第56-58页 |
| 3.2.2 回流比的分析 | 第58-59页 |
| 3.2.3 采出比的分析 | 第59-61页 |
| 3.2.4 正交试验设计 | 第61-62页 |
| 3.3 精馏二塔模拟优化 | 第62-68页 |
| 3.3.1 进料位置的分析 | 第62-64页 |
| 3.3.2 回流比的分析 | 第64-65页 |
| 3.3.3 采出比的分析 | 第65-67页 |
| 3.3.4 正交试验设计 | 第67-68页 |
| 3.4 精馏三塔模拟优化 | 第68-74页 |
| 3.4.1 进料位置的分析 | 第68-70页 |
| 3.4.2 回流比的分析 | 第70-71页 |
| 3.4.3 采出比的分析 | 第71-72页 |
| 3.4.4 正交试验设计 | 第72-74页 |
| 3.5 精馏四塔模拟优化 | 第74-79页 |
| 3.5.1 进料位置的分析 | 第74-75页 |
| 3.5.2 回流比的分析 | 第75-77页 |
| 3.5.3 采出比的分析 | 第77-78页 |
| 3.5.4 正交试验设计 | 第78-79页 |
| 3.6 小结 | 第79-83页 |
| 第四章 四塔四差压节能优化 | 第83-95页 |
| 4.1 能量匹配工艺方案 | 第83-91页 |
| 4.1.1 能耗公式推导 | 第84-86页 |
| 4.1.2 参数调节 | 第86-91页 |
| 4.2 差压精馏经济效益分析 | 第91-94页 |
| 4.2.1 能耗对比 | 第91-92页 |
| 4.2.2 公用工程消耗对比 | 第92-93页 |
| 4.2.3 设备费用对比 | 第93-94页 |
| 4.2.4 产品对比 | 第94页 |
| 4.3 小结 | 第94-95页 |
| 第五章 四氯化硅精馏系统过程控制优化 | 第95-125页 |
| 5.1 动态控制数学模型 | 第95-98页 |
| 5.1.1 设备动态模型 | 第96-98页 |
| 5.1.2 控制器及其数学模型 | 第98页 |
| 5.2 动态流程的搭建 | 第98-103页 |
| 5.2.1 灵敏板位置分析 | 第98-101页 |
| 5.2.2 设备尺寸的确定 | 第101-102页 |
| 5.2.3 动态模拟初值的确定 | 第102-103页 |
| 5.3 控制方案设计与分析 | 第103-123页 |
| 5.3.1 T1101塔动态控制及响应 | 第104-109页 |
| 5.3.2 T1102塔动态控制及响应 | 第109-113页 |
| 5.3.3 T1103塔动态控制及响应 | 第113-118页 |
| 5.3.4 T1104塔动态控制及响应 | 第118-123页 |
| 5.4 小结 | 第123-125页 |
| 第六章 结论 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-131页 |
| 致谢 | 第131-133页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第133-135页 |
| 作者和导师简介 | 第135-136页 |
| 附件 | 第136-137页 |
