| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 头戴显示器的发展 | 第13-19页 |
| 1.2 头戴显示器的研究现状 | 第19-28页 |
| 1.2.1 微型显示器 | 第19-20页 |
| 1.2.2 头戴显示器分类 | 第20-25页 |
| 1.2.3 头戴显示器基本设计要求 | 第25-27页 |
| 1.2.4 国内研究现状 | 第27-28页 |
| 1.3 论文主要研究内容及结构安排 | 第28-31页 |
| 第2章 两类基于出瞳扩展的头戴显示器 | 第31-47页 |
| 2.1 视网膜扫描显示器 | 第31-42页 |
| 2.1.1 视网膜扫描显示器的发展 | 第31-34页 |
| 2.1.2 结构组成与工作原理 | 第34-35页 |
| 2.1.3 关键技术 | 第35-42页 |
| 2.2 平板光波导头戴显示器 | 第42-45页 |
| 2.2.1 全息波导型HMD | 第43-45页 |
| 2.2.2 半透膜阵列波导型HMD | 第45页 |
| 2.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 第3章 视网膜扫描显示器出瞳扩展研究 | 第47-85页 |
| 3.1 出瞳扩展基本思路 | 第47-50页 |
| 3.2 出瞳扩展方法的理论研究 | 第50-64页 |
| 3.2.1 理论基础 | 第51-53页 |
| 3.2.2 二元位相光栅出瞳扩展器 | 第53-58页 |
| 3.2.3 微透镜阵列出瞳扩展器 | 第58-64页 |
| 3.3 微透镜阵列出瞳扩展器的物理光学仿真 | 第64-69页 |
| 3.3.1 近场的衍射发散 | 第64-67页 |
| 3.3.2 目镜出瞳处的远场衍射分布 | 第67-69页 |
| 3.4 扩展出瞳对人眼的影响机制研究 | 第69-72页 |
| 3.4.1 扩展出瞳照度均匀性的视觉评价模型 | 第69-70页 |
| 3.4.2 光瞳均匀性的主观视觉差异 | 第70-72页 |
| 3.5 加工误差对微透镜阵列出瞳均匀性的影响 | 第72-82页 |
| 3.5.1 灰度曝光加工法引入的面形误差 | 第72-76页 |
| 3.5.2 光刻胶热熔加工法引入的面形误差 | 第76-79页 |
| 3.5.3 各向同性离子反应刻蚀加工法引入的面形误差 | 第79-82页 |
| 3.6 本章小结 | 第82-85页 |
| 第4章 半透膜阵列波导头戴显示器出瞳扩展研究 | 第85-109页 |
| 4.1 半透膜阵列的出瞳扩展原理 | 第85-87页 |
| 4.2 水平扩展波导结构设计 | 第87-94页 |
| 4.2.1 全反射条件 | 第88-89页 |
| 4.2.2 各反射面的倾角 | 第89-90页 |
| 4.2.3 消除杂光条件 | 第90-91页 |
| 4.2.4 反射镜倾角与有效区域 | 第91-93页 |
| 4.2.5 水平视场 | 第93-94页 |
| 4.3 垂直扩展波导结构设计 | 第94-101页 |
| 4.3.1 垂直视场 | 第94-95页 |
| 4.3.2 一种45度半透膜阵列 | 第95-101页 |
| 4.4 光学系统设计与仿真 | 第101-108页 |
| 4.4.1 扩展波导的优化 | 第101-103页 |
| 4.4.2 目镜光学系统设计 | 第103-104页 |
| 4.4.3 系统的仿真分析 | 第104-108页 |
| 4.5 本章小结 | 第108-109页 |
| 第5章 结论与展望 | 第109-113页 |
| 5.1 研究成果和创新点 | 第109-110页 |
| 5.2 进一步研究工作展望 | 第110-113页 |
| 参考文献 | 第113-127页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第127-129页 |
| 指导教师及作者简介 | 第129-131页 |
| 致谢 | 第131页 |