摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
1 前言 | 第10-25页 |
1.1 分子印迹技术简介 | 第10-12页 |
1.1.1 分子印迹聚合物的识别机理 | 第10-11页 |
1.1.2 分子印迹聚合物的分类 | 第11-12页 |
1.2 分子印迹聚合物的制备要素 | 第12-13页 |
1.2.1 模板分子 | 第12页 |
1.2.2 功能单体 | 第12-13页 |
1.2.3 交联剂 | 第13页 |
1.2.4 致孔剂 | 第13页 |
1.2.5 引发方式 | 第13页 |
1.3 分子印迹聚合物的应用 | 第13-15页 |
1.3.1 色谱分离 | 第13-14页 |
1.3.2 固相萃取 | 第14页 |
1.3.3 模拟酶及模拟抗体 | 第14页 |
1.3.4 传感器制备 | 第14-15页 |
1.4 分子印迹电化学传感器 | 第15-19页 |
1.4.1 分子印迹电化学传感器的制备方法 | 第16-17页 |
1.4.2 分子印迹电化学传感器的分类 | 第17-19页 |
1.5 柠檬黄简介及检测方法 | 第19-23页 |
1.5.1 食用色素简介 | 第19-20页 |
1.5.2 柠檬黄的结构与理化性质 | 第20-21页 |
1.5.3 柠檬黄的研究现状与限量标准 | 第21页 |
1.5.4 国内外柠檬黄的检测方法 | 第21-23页 |
1.6 本课题的主要研究内容和意义 | 第23-25页 |
1.6.1 本课题的主要研究内容 | 第23页 |
1.6.2 本课题的研究意义 | 第23-25页 |
2 材料与方法 | 第25-31页 |
2.1 试剂及仪器 | 第25-27页 |
2.1.1 实验试剂 | 第25页 |
2.1.2 主要溶液的配制 | 第25-26页 |
2.1.3 实验仪器及耗材 | 第26-27页 |
2.2 实验方法 | 第27-31页 |
2.2.1 玻碳电极的预处理 | 第27-28页 |
2.2.2 分子印迹膜修饰电极的制备 | 第28页 |
2.2.3 模板分子的洗脱 | 第28页 |
2.2.4 分子印迹膜修饰电极的保存 | 第28-29页 |
2.2.5 检测方法 | 第29页 |
2.2.6 循环伏安法对分子印迹膜修饰电极制备各阶段的表征 | 第29页 |
2.2.7 交流阻抗法对分子印迹膜修饰传感器制备各阶段的表征 | 第29页 |
2.2.8 选择性实验 | 第29-30页 |
2.2.9 重现性和使用寿命的研究 | 第30页 |
2.2.10 实际样品分析 | 第30-31页 |
3 结果与讨论 | 第31-54页 |
3.1 玻碳电极的预处理 | 第31页 |
3.2 间苯二酚和邻苯二胺电化学活性的考察 | 第31-32页 |
3.3 电聚合过程 | 第32-33页 |
3.4 柠檬黄分子印迹膜印迹机理及传感器检测原理分析 | 第33-35页 |
3.5 分子印迹传感器制备条件的选择优化 | 第35-40页 |
3.5.1 聚合液pH的选择 | 第35页 |
3.5.2 功能单体和模板分子的组成的优化 | 第35-36页 |
3.5.3 聚合电位和聚合圈数的选择 | 第36-38页 |
3.5.4 循环扫描速度对电催化性能的影响 | 第38页 |
3.5.5 洗脱体系及洗脱时间的选择 | 第38-40页 |
3.6 分子印迹效应的验证 | 第40-44页 |
3.6.1 循环伏安和差分脉冲伏安表征 | 第40-42页 |
3.6.2 交流阻抗表征 | 第42-44页 |
3.6.3 形貌表征 | 第44页 |
3.7 检测条件的优化 | 第44-48页 |
3.7.1 孵化时间的选择 | 第44-45页 |
3.7.2 脉冲间隔的影响 | 第45-46页 |
3.7.3 脉冲幅度的影响 | 第46-47页 |
3.7.4 脉冲宽度的影响 | 第47页 |
3.7.5 电位增量的影响 | 第47-48页 |
3.8 线性关系和检出限 | 第48-49页 |
3.9 电聚合膜的化学稳定性 | 第49-50页 |
3.10 电聚合膜的热稳定性 | 第50页 |
3.11 柠檬黄分子印迹传感器选择性的考察 | 第50-52页 |
3.12 印迹膜电极的重现性与使用寿命 | 第52-53页 |
3.13 实际样品分析 | 第53-54页 |
4 结论 | 第54-55页 |
5 展望 | 第55-56页 |
6 参考文献 | 第56-64页 |
7 攻读硕士学位期间论文发表情况 | 第64-65页 |
8 致谢 | 第65页 |