| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 气体传感器 | 第10-12页 |
| 1.2.1 气体传感器概述 | 第10-11页 |
| 1.2.2 气体传感器分类 | 第11-12页 |
| 1.2.3 气敏传感器的发展方向 | 第12页 |
| 1.3 半导体金属氧化物气敏传感器 | 第12-19页 |
| 1.3.1 气敏元件类型 | 第12-14页 |
| 1.3.2 性能衡量指标 | 第14-16页 |
| 1.3.3 气敏机理 | 第16-17页 |
| 1.3.4 气敏性能的影响因素 | 第17-19页 |
| 1.4 二维材料 | 第19-20页 |
| 1.4.1 二维材料简介 | 第19-20页 |
| 1.4.2 二维材料制备方法 | 第20页 |
| 1.4.3 二维材料气敏应用 | 第20页 |
| 1.5 半导体金属氧化物MoO_3 | 第20-23页 |
| 1.5.1 MoO_3的晶体结构 | 第20-21页 |
| 1.5.2 MoO_3的性质 | 第21-23页 |
| 1.5.3 MoO_3传感器研究前景 | 第23页 |
| 1.6 本论文的研究意义及主要工作 | 第23-26页 |
| 1.6.1 选题意义 | 第23-24页 |
| 1.6.2 主要工作 | 第24页 |
| 1.6.3 创新点 | 第24-26页 |
| 第二章 实验仪器和试剂 | 第26-28页 |
| 2.1 实验表征仪器 | 第26-27页 |
| 2.1.1 紫外可见近红外光谱仪(UV-Vis-NIR) | 第26页 |
| 2.1.2 X射线单晶体衍射仪(XRD) | 第26页 |
| 2.1.3 激光拉曼光谱仪(Raman) | 第26页 |
| 2.1.4 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第26-27页 |
| 2.1.5 透射电子显微镜(TEM) | 第27页 |
| 2.1.6 原子力显微镜(AFM) | 第27页 |
| 2.2 实验所用试剂 | 第27-28页 |
| 第三章 二维MoO_3纳米片的制备与气敏性能的研究 | 第28-42页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 实验部分 | 第29-31页 |
| 3.2.1 二维MoO_3的制备 | 第29-30页 |
| 3.2.2 表征方法 | 第30页 |
| 3.2.3 气敏传感器的制备 | 第30-31页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第31-40页 |
| 3.3.1 晶体结构表征 | 第31-33页 |
| 3.3.2 微观形貌表征 | 第33-35页 |
| 3.3.3 气敏性能测试 | 第35-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 不同有机溶剂对MoO_3晶体剥离与分散效果的影响 | 第42-52页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 实验部分 | 第43-44页 |
| 4.2.1 二维MoO_3的制备 | 第43页 |
| 4.2.2 表征方法 | 第43-44页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第44-50页 |
| 4.3.1 浓度测试 | 第44-46页 |
| 4.3.2 尺寸和厚度分析 | 第46-47页 |
| 4.3.3 气敏性能测试 | 第47-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 MoO_3与有机共轭聚合物插层复合材料的制备研究 | 第52-58页 |
| 5.1 引言 | 第52-53页 |
| 5.2 实验部分 | 第53-54页 |
| 5.2.1 插层复合物的合成 | 第53页 |
| 5.2.2 表征方法 | 第53-54页 |
| 5.3 结果分析 | 第54-56页 |
| 5.3.1 XRD分析 | 第54-55页 |
| 5.3.2 IR分析 | 第55-56页 |
| 5.3.3 SEM分析 | 第56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第六章 结论和展望 | 第58-60页 |
| 6.1 结论 | 第58-59页 |
| 6.2 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第70页 |
