基于离子束刻蚀技术的反台面型MQCM研究
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2 石英晶体微天平 | 第12-19页 |
| 1.2.1 石英晶体微天平发展 | 第12-13页 |
| 1.2.2 石英晶体微天平原理 | 第13-16页 |
| 1.2.3 石英晶体微天平的分类及应用 | 第16-19页 |
| 1.3 反台面型石英晶体微天平 | 第19-20页 |
| 1.3.1 反台面型石英晶体微天平研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3.2 反台面型石英晶体微天平优势 | 第20页 |
| 1.4 论文的目的及主要研究内容 | 第20-23页 |
| 1.4.1 研究目的和意义 | 第20-21页 |
| 1.4.2 研究内容和技术路线 | 第21-23页 |
| 第2章 AT石英反台面制作工艺 | 第23-32页 |
| 2.1 AT石英晶体 | 第23-24页 |
| 2.2 反台面加工技术 | 第24-27页 |
| 2.2.1 化学刻蚀法 | 第25页 |
| 2.2.2 物理刻蚀法 | 第25-26页 |
| 2.2.3 反台面型刻蚀方法选用 | 第26-27页 |
| 2.3 离子束刻蚀工艺 | 第27-29页 |
| 2.4 QCM电极曝光对准 | 第29-32页 |
| 第3章 反台面型双QCM微加工制作 | 第32-49页 |
| 3.1 薄膜制备方法 | 第32-36页 |
| 3.1.1 电子束加热蒸发 | 第33页 |
| 3.1.2 直流、射频溅射沉积 | 第33-34页 |
| 3.1.3 磁控溅射 | 第34-35页 |
| 3.1.4 反台面型QCM薄膜制备方法 | 第35-36页 |
| 3.2 反台面型QCM粘附式掩膜方法 | 第36-38页 |
| 3.3 反台面型双QCM微加工制作工艺 | 第38-48页 |
| 3.4 实验小结 | 第48-49页 |
| 第4章 反台面型双QCM的表征 | 第49-57页 |
| 4.1 谐振频率测量仪 | 第49-50页 |
| 4.2 反台面型双QCM夹持、引线装置 | 第50-51页 |
| 4.3 反台面型双QCM谐振频率测量结果 | 第51-57页 |
| 4.3.1 激光共聚焦扫描 | 第51-53页 |
| 4.3.2 谐振频率 | 第53-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第65页 |
