| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·选题背景及意义 | 第9-10页 |
| ·论文相关技术的国内外研究概况 | 第10-17页 |
| ·轴承温度测量技术发展概况 | 第10-14页 |
| ·薄膜热电偶技术研究概况 | 第14-17页 |
| ·本文主要研究内容及组织结构 | 第17-19页 |
| 第二章 平行电极薄膜温度传感器的研制 | 第19-32页 |
| ·薄膜温度传感器结构设计 | 第19-22页 |
| ·同轴薄膜温度传感器的结构设计 | 第20页 |
| ·平行电极薄膜温度传感器的结构设计 | 第20-21页 |
| ·方案比较 | 第21-22页 |
| ·平行电极薄膜温度传感器的制备 | 第22-26页 |
| ·真空烤瓷炉介绍 | 第22-23页 |
| ·材料选择 | 第23-24页 |
| ·平行电极薄膜传感器烧结工艺及参数 | 第24-26页 |
| ·薄膜制备 | 第26-29页 |
| ·沉积薄膜的要求 | 第26-27页 |
| ·直流脉冲磁控溅射技术 | 第27-28页 |
| ·NiSi材料薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·薄膜性能表征 | 第29-31页 |
| ·NiSi薄膜的厚度测量 | 第29页 |
| ·NiSi薄膜表面形貌观测 | 第29-30页 |
| ·NiSi薄膜能谱分析 | 第30-31页 |
| 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 平行电极薄膜温度传感器的技术特性研究 | 第32-42页 |
| ·平行电极薄膜温度传感器的静态特性 | 第32-36页 |
| ·静态标定系统 | 第32-34页 |
| ·平行电极式薄膜温度传感器的静态标定过程及静态特性分析 | 第34-36页 |
| ·平行电极薄膜温度传感器的动态标定 | 第36-40页 |
| ·平行电极薄膜温度传感器的动态标定方法 | 第36-38页 |
| ·平行电极薄膜温度传感器的动态标定实验系统 | 第38-39页 |
| ·平行电极薄膜温度传感器的动态标定实验过程及结果 | 第39-40页 |
| ·误差分析 | 第40-41页 |
| 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 平行电极薄膜温度传感器模拟实验 | 第42-54页 |
| ·实验方法 | 第42-43页 |
| ·实验设备选择及简介 | 第43-44页 |
| ·实验过程、数据及结果 | 第44-52页 |
| ·传感器装配及轴承的装配 | 第44-46页 |
| ·实验结果及分析 | 第46-52页 |
| ·误差分析 | 第52-53页 |
| 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |