| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 注释表 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·BN 的结构与性质 | 第11-14页 |
| ·BN 的几种同素异构体 | 第11-13页 |
| ·cBN 的性质 | 第13-14页 |
| ·cBN 涂层的生长机理及制备方法 | 第14-17页 |
| ·生长模型 | 第14-16页 |
| ·立方氮化硼的制备方法 | 第16-17页 |
| ·cBN 的表征方法 | 第17-20页 |
| ·傅立叶变换红外谱（FTIR） | 第18页 |
| ·激光拉曼光谱（Raman） | 第18-19页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第19页 |
| ·掠入射 X 射线衍射（GIXRD） | 第19-20页 |
| ·CVD 法制备 cBN 研究现状及存在的主要问题 | 第20-21页 |
| ·研究现状 | 第20-21页 |
| ·存在的主要问题 | 第21页 |
| ·本论文的研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 DC jet plasma CVD 制备 cBN 设备研究 | 第23-35页 |
| ·DC jet plasma CVD 沉积系统研究 | 第23-29页 |
| ·DC jet plasma CVD 系统原理 | 第23-24页 |
| ·DC jet plasma CVD 系统组成 | 第24-25页 |
| ·DC jet plasma CVD 沉积系统改进 | 第25-29页 |
| ·DC jet plasma CVD 法制备 cBN 引入 BF3的作用 | 第29页 |
| ·等离子体弧稳定性研究 | 第29-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 DC jet plasma CVD 法制备 cBN 有限元仿真研究 | 第35-48页 |
| ·反应气体的流体特性 | 第35-36页 |
| ·流场仿真模型的建立 | 第36-40页 |
| ·沉积台部分的几何尺寸 | 第36-37页 |
| ·沉积腔建模 | 第37-39页 |
| ·沉积腔仿真计算 | 第39-40页 |
| ·沉积腔仿真结果及分析 | 第40-46页 |
| ·阳极环与沉积台不同距离仿真结果与分析 | 第40-43页 |
| ·不同气体配比仿真结果与分析 | 第43-45页 |
| ·不同沉积台仿真结果与分析 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 基于 DC jet plasma CVD 的 cBN 制备工艺研究 | 第48-62页 |
| ·衬底材料的选择及制备 | 第48-50页 |
| ·金刚石过渡层的制备及分析 | 第48-50页 |
| ·制备 cBN 实验过程 | 第50-51页 |
| ·衬底预处理 | 第50-51页 |
| ·实验过程 | 第51页 |
| ·Si 衬底制备 cBN 研究 | 第51-56页 |
| ·沉积温度对 cBN 制备的影响 | 第51-53页 |
| ·衬底偏压对 cBN 制备的影响 | 第53-56页 |
| ·Si/金刚石衬底制备 cBN 研究 | 第56-57页 |
| ·硬质合金/金刚石衬底制备 cBN 探索研究 | 第57-59页 |
| ·Mo/金刚石衬底制备 cBN 探索研究 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
| ·总结 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第69页 |
