SCDD膜的生长机理及制备实验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 注释表 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·金刚石结构与性能 | 第11-12页 |
| ·金刚石合成方法与机理 | 第12-18页 |
| ·高压法 | 第13-14页 |
| ·物理气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积法 | 第15-16页 |
| ·金刚石低压合成机理 | 第16-18页 |
| ·选择性刻蚀制备碳材料 | 第18-21页 |
| ·碳化物衍生碳 | 第18-20页 |
| ·碳化物衍生金刚石 | 第20-21页 |
| ·研究意义与主要内容 | 第21-23页 |
| ·研究意义 | 第21-22页 |
| ·主要内容 | 第22-23页 |
| 第二章 SCDD 膜的生长机理研究 | 第23-34页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·金刚石的转化机制 | 第23-25页 |
| ·结构转化机制 | 第23-24页 |
| ·热力学转化机制 | 第24-25页 |
| ·选择性刻蚀反应研究 | 第25-31页 |
| ·活性原子产生机制 | 第25-26页 |
| ·碳团簇产生机制 | 第26页 |
| ·活性原子对碳团簇作用机制 | 第26-30页 |
| ·金刚石微团簇的稳定 | 第30-31页 |
| ·金刚石形成的“四阶段模型” | 第31-32页 |
| ·金刚石增厚的“塌层模型” | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 SCDD 膜的实验系统研究 | 第34-53页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验装置研制 | 第34-39页 |
| ·装置要求 | 第34-35页 |
| ·总体设计 | 第35-36页 |
| ·性能测试 | 第36-39页 |
| ·系统流场、温度场研究 | 第39-50页 |
| ·CFD 理论 | 第39-40页 |
| ·FLUENT 简介 | 第40页 |
| ·进气速度的影响 | 第40-44页 |
| ·载流气体的影响 | 第44-47页 |
| ·冷却方式的影响 | 第47-49页 |
| ·加热方式的影响 | 第49-50页 |
| ·系统改进措施 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 SCDD 膜的制备实验研究 | 第53-67页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·实验与检测 | 第53-55页 |
| ·实验方案 | 第53页 |
| ·测试方法 | 第53-55页 |
| ·实验结果与讨论 | 第55-66页 |
| ·物相组成分析 | 第55-59页 |
| ·显微硬度和弹性模量 | 第59-60页 |
| ·表面形貌与 EDS 分析 | 第60-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
| ·总结 | 第67-68页 |
| ·创新点 | 第68页 |
| ·展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 在学期间的研究成果及参加科研情况 | 第76页 |
