| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 图表清单 | 第10-13页 |
| 注释表 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| ·BDD 电极的性能及应用 | 第14-17页 |
| ·BDD 电极的优异性能 | 第14-15页 |
| ·BDD 电极的用途 | 第15-17页 |
| ·BDD 电极的制备 | 第17-19页 |
| ·CVD 法制备金刚石薄膜 | 第17-18页 |
| ·BDD 电极制备研究现状 | 第18-19页 |
| ·制备设备研究现状 | 第19页 |
| ·本文的研究目的和主要内容 | 第19-22页 |
| ·研究目的 | 第19-20页 |
| ·研究工作和任务 | 第20-22页 |
| 第二章 大面积 BDD 电极制备存在的问题分析 | 第22-30页 |
| ·BDD 电极制备原理 | 第22-23页 |
| ·硼掺杂的作用 | 第22页 |
| ·掺硼方式 | 第22-23页 |
| ·HFCVD 法的 BDD 电极制备实验 | 第23-25页 |
| ·衬底材料的选择 | 第23页 |
| ·实验设备 | 第23页 |
| ·实验步骤 | 第23-25页 |
| ·试验结果分析 | 第25-29页 |
| ·BDD 薄膜检测方法 | 第25-26页 |
| ·薄膜导电性 | 第26-27页 |
| ·表面形貌 | 第27-28页 |
| ·薄膜成分 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 双面大面积 BDD 电极制备系统的流场研究 | 第30-45页 |
| ·气体性质研究 | 第30-33页 |
| ·气体组成 | 第30-31页 |
| ·反应气压 | 第31页 |
| ·气体的黏滞现象 | 第31-32页 |
| ·气体流动状态 | 第32页 |
| ·气体流动的可压缩性 | 第32-33页 |
| ·现有沉积设备流场分析 | 第33-37页 |
| ·分析方案 | 第33页 |
| ·薄膜导电性测量 | 第33-34页 |
| ·流场有限元模型的建立 | 第34-35页 |
| ·流场数值结果分析 | 第35-37页 |
| ·进排气口结构对流场的影响 | 第37-40页 |
| ·集中式进排气的流场研究 | 第37-38页 |
| ·不同程度分散式进排气的流场研究 | 第38-39页 |
| ·进排气口口径对流场的影响 | 第39-40页 |
| ·边缘流场均匀性改进 | 第40-43页 |
| ·上方边缘流场均匀性改进 | 第40-42页 |
| ·其他边缘流场均匀性改进 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 双面大面积 BDD 电极制备系统的温度场研究 | 第45-61页 |
| ·辐射模型理论 | 第45-48页 |
| ·辐射换热概述 | 第45-46页 |
| ·辐射换热的计算方法 | 第46-48页 |
| ·现有沉积设备基片温度场分析 | 第48-54页 |
| ·温度测量 | 第48-50页 |
| ·热辐射有限元模型建立 | 第50-52页 |
| ·计算结果及分析 | 第52-54页 |
| ·大面积基片温度场优化设计 | 第54-59页 |
| ·热丝间距对基片温度场的影响 | 第54-55页 |
| ·热丝与基片间距对基片温度场的影响 | 第55-56页 |
| ·边缘温度场优化 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 双面大面积 BDD 电极制备系统关键结构设计 | 第61-75页 |
| ·受压结构设计 | 第61-65页 |
| ·真空室外壳选材 | 第61页 |
| ·真空室壁厚计算 | 第61-62页 |
| ·真空室壳体强度数值计算 | 第62-64页 |
| ·管道设计 | 第64-65页 |
| ·设备冷却设计 | 第65-71页 |
| ·冷却水流量计算 | 第65-67页 |
| ·真空室外壁冷却 | 第67-68页 |
| ·电极冷却 | 第68-71页 |
| ·设备搭建 | 第71-73页 |
| ·真空室壳体 | 第71-72页 |
| ·运动机构 | 第72页 |
| ·电极结构 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第六章 总结与展望 | 第75-77页 |
| ·总结 | 第75页 |
| ·展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第83页 |
