| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-17页 |
| 第二章 超导腔体工作原理以及加工和表面处理 | 第17-42页 |
| ·超导腔体工作原理 | 第17-33页 |
| ·射频谐振腔概述 | 第17-19页 |
| ·超导体金属铌 | 第19-20页 |
| ·射频电场加速粒子原理 | 第20-28页 |
| ·同轴线型低beta超导腔体参数 | 第28-32页 |
| ·同轴线型低beta超导腔体设计概论 | 第32-33页 |
| ·使用超导腔体的优势 | 第33页 |
| ·纯铌超导腔体加工和表面处理 | 第33-42页 |
| ·纯铌超导腔体加工概述 | 第34-36页 |
| ·纯铌超导腔体表面处理概述 | 第36-42页 |
| 第三章 超导腔体测试原理 | 第42-75页 |
| ·射频测量基础 | 第42-54页 |
| ·传输线方程 | 第42-44页 |
| ·无损耗传输线的终端负载与射频反射参数 | 第44-45页 |
| ·射频系统传输参数 | 第45-47页 |
| ·射频网络分析与S参数 | 第47-48页 |
| ·射频系统的50Ω特性阻抗 | 第48-49页 |
| ·射频频率和功率的测量 | 第49-54页 |
| ·谐振腔的功率耦合 | 第54-59页 |
| ·外部负载与谐振腔的耦合 | 第54-56页 |
| ·外部负载的耦合状态 | 第56-58页 |
| ·前向功率耦合器与耦合探针 | 第58-59页 |
| ·超导腔体的测量 | 第59-69页 |
| ·超导腔体的常温态测量 | 第59-63页 |
| ·超导腔体的超导态测量 | 第63-69页 |
| ·超导腔体的频率锁定 | 第69-75页 |
| ·超导腔体频率控制概述 | 第69-70页 |
| ·VCO-PLL 锁频原理 | 第70-72页 |
| ·VCO-PLL 仿真分析 | 第72-75页 |
| 第四章 低 beta 超导腔体的测试系统设计 | 第75-92页 |
| ·用于低 beta 超导腔体的垂直测试系统设计 | 第75-89页 |
| ·基础设施建设 | 第75-77页 |
| ·测试系统的外围设备 | 第77-81页 |
| ·测试系统的射频低电平硬件设计 | 第81-85页 |
| ·测试系统的测试软件设计 | 第85-89页 |
| ·用于低 beta 超导腔体的水平测试系统设计 | 第89-92页 |
| ·系统整体构成 | 第89-90页 |
| ·快连锁保护 | 第90-92页 |
| 第五章 IMP-HWR010-S 腔体的测试方法与测量结果 | 第92-116页 |
| ·IMP-HWR010-S 超导腔体参数指标 | 第92-93页 |
| ·外部 Q 值的测量与耦合天线确定 | 第93-99页 |
| ·测试的降温过程 | 第99-100页 |
| ·测试线缆校准 | 第100-106页 |
| ·IMP-HWR010-S 腔体 df/dP 测量 | 第106-108页 |
| ·IMP-HWR010-S 腔体的暂态测量 | 第108-111页 |
| ·IMP-HWR010-S 腔体的稳态测量 | 第111-114页 |
| ·IMP-HWR010-S 腔体的洛仑兹失谐测量 | 第114-116页 |
| 第六章 物理现象分析与锻炼技术讨论 | 第116-134页 |
| ·多次电子倍增效应 | 第116-120页 |
| ·场致发射 | 第120-121页 |
| ·失超 | 第121-124页 |
| ·超导腔体的受迫振动效应 | 第124-130页 |
| ·受迫振动的动力学模型 | 第124-125页 |
| ·并联谐振电路的受迫振动 | 第125-128页 |
| ·超导腔体的受迫振动 | 第128-130页 |
| ·低 beta 超导腔体锻炼技术讨论 | 第130-134页 |
| ·低场区多次电子倍增效应的锻炼 | 第130-132页 |
| ·中高场区的高功率脉冲锻炼 | 第132-134页 |
| 第七章 结论与展望 | 第134-136页 |
| ·结论 | 第134页 |
| ·未来工作展望 | 第134-136页 |
| 参考文献 | 第136-140页 |
| 作者简历及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第140页 |