| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·费一托合成研究背景和现状 | 第11-12页 |
| ·发展背景 | 第11-12页 |
| ·研究现状 | 第12页 |
| ·费一托合成催化剂研究进展 | 第12-17页 |
| ·铁催化剂 | 第13-14页 |
| ·钴催化剂 | 第14页 |
| ·钌催化剂 | 第14-17页 |
| ·费一托合成反应器及工艺 | 第17-21页 |
| ·费一托合成反应器 | 第17-19页 |
| ·费一托合成工艺参数 | 第19-20页 |
| ·费一托合成催化剂失活 | 第20-21页 |
| ·费一托合成反应机理 | 第21-25页 |
| ·硅纳米管的合成及在催化领域中的应用 | 第25-26页 |
| ·硅纳米管的主要特征 | 第25页 |
| ·硅纳米管的合成和形成机理 | 第25-26页 |
| ·硅纳米管及其在催化领域中的应用 | 第26页 |
| ·论文选题目的和研究思路 | 第26-28页 |
| 第二章 催化剂的制备、表征及费一托合成反应活性评价方法 | 第28-33页 |
| ·催化剂的制备 | 第28-30页 |
| ·试剂列表 | 第28页 |
| ·催化剂的制备 | 第28-30页 |
| ·催化剂的表征 | 第30-31页 |
| ·N_2 吸附-脱附测试 | 第30页 |
| ·透射电子显微镜 | 第30页 |
| ·X-射线粉末衍射 | 第30页 |
| ·电感耦合等离子体发射光谱 | 第30-31页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第31页 |
| ·氢气程序升温脱附和氧滴定 | 第31页 |
| ·费一托合成反应活性测试 | 第31-33页 |
| 第三章 硅纳米管负载钌基催化剂对费一托合成的催化性能研究 | 第33-39页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·催化剂制备、表征及费一托合成活性评价 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-38页 |
| ·X-射线衍射 | 第34页 |
| ·N_2 物理吸附-脱附 | 第34-35页 |
| ·透射电电子显微镜 | 第35-37页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第37页 |
| ·费一托合成反应活性测试 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 无机纳米管负载钴基催化剂对费一托合成的催化性能研究 | 第39-45页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·催化剂制备、表征及费一托合成活性评价 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-44页 |
| ·X-射线衍射 | 第40页 |
| ·N_2 物理吸附-脱附 | 第40-41页 |
| ·透射电电子显微镜 | 第41-42页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第42-43页 |
| ·费一托合成反应活性测试 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 不同硅材料负载钴基催化剂对费一托合成的催化性能研究 | 第45-51页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·催化剂制备、表征及费一托合成活性评价 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-49页 |
| ·X-射线衍射 | 第45-47页 |
| ·N_2 物理吸附-脱附 | 第47页 |
| ·氢气程序升温还原 | 第47-48页 |
| ·氢气的程序升温脱附与氧滴定 | 第48-49页 |
| ·费一托合成反应活性测试 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 论文总结 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-69页 |
| 附录 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第73页 |
