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太阳能电池氮化硅薄膜制备与钝化研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-11页
第一章 引言第11-24页
   ·能源危机与太阳能第11-12页
   ·晶体硅太阳能电池简介第12-19页
     ·晶体硅太阳能电池电性能分析第13-17页
     ·晶体硅太阳能电池制造技术第17-19页
   ·晶体硅太阳能电池镀膜与钝化技术第19-22页
     ·晶体硅太阳能电池镀膜与钝化的作用第19-21页
     ·晶体硅太阳能电池镀膜与钝化技术国内外研究现状第21-22页
   ·本课题研究的目标和内容第22-24页
第二章 氮化硅镀膜工艺参数研究第24-32页
   ·PECVD 镀膜原理第24-25页
   ·温度特性研究第25-26页
   ·压力特性研究第26-27页
   ·功率特性研究第27-29页
   ·硅烷-氨气流量比特性研究第29-32页
第三章 氨气氢钝化工艺研究第32-41页
   ·氢钝化和氨气钝化原理第32页
   ·氨气氢钝化实验第32-36页
     ·氮化硅沉积前钝化第33-34页
     ·氮化硅沉积后钝化第34-35页
     ·镀膜前、镀膜后氨气钝化对比分析第35-36页
   ·氨气氢钝化优化研究第36-41页
第四章 叠层镀膜工艺研究第41-66页
   ·多层膜减反理论分析第41-42页
   ·双层氮化硅膜研究第42-50页
     ·双层膜理论分析与仿真第42-44页
     ·双层膜实验第44-47页
     ·数据分析第47-50页
   ·三层膜研究第50-58页
     ·氮氧化硅薄膜的制备第51-52页
     ·三层膜理论分析与仿真第52-54页
     ·三层膜实验第54-56页
     ·数据分析第56-58页
   ·其它工艺与多层膜技术的整合第58-66页
     ·氨气氢钝化与多层膜技术第59-61页
     ·PN 结扩散与多层膜技术第61-66页
第五章 总结与展望第66-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-72页
攻硕期间取得的研究成果第72-73页

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