| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·Ni-Zn 铁氧体薄膜国内外的研究现状及其应用 | 第10-16页 |
| ·薄膜制备技术发展及研究现状 | 第10-12页 |
| ·薄膜器件的应用 | 第12-16页 |
| ·本论文选题意义及研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 薄膜的制备、表征及测试方法 | 第18-26页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·靶材的制备 | 第18-19页 |
| ·薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·磁控溅射原理 | 第19页 |
| ·薄膜的生长 | 第19-20页 |
| ·实验方法 | 第20-21页 |
| ·薄膜性能的表征及测试方法 | 第21-26页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第21-22页 |
| ·场发射扫描电镜（FESEM） | 第22-23页 |
| ·X-射线能谱仪（EDS） | 第23页 |
| ·振动样品磁强计（VSM） | 第23-24页 |
| ·矢量网络分析仪（VNA） | 第24-26页 |
| 第三章 工艺条件对 Ni-Zn 铁氧体薄膜性能的影响 | 第26-52页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·对 Ni_(0.5)Zn_(0.5)Fe_2O_4靶材溅射产额的蒙特卡罗模拟 | 第26-30页 |
| ·计算原理及参数设置 | 第26-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-30页 |
| ·薄膜厚度对 Ni-Zn 铁氧体薄膜性能的影响 | 第30-37页 |
| ·样品的制备 | 第30-31页 |
| ·薄膜的物相结构及微观形貌 | 第31-33页 |
| ·薄膜的静态磁性能 | 第33-35页 |
| ·薄膜的高频磁性能 | 第35-37页 |
| ·氧分压对 Ni-Zn 铁氧体薄膜性能的影响 | 第37-43页 |
| ·样品的制备 | 第37页 |
| ·薄膜的物相结构及微观形貌 | 第37-40页 |
| ·薄膜的静态磁性能 | 第40-42页 |
| ·薄膜的高频磁性能 | 第42-43页 |
| ·基片温度对 Ni-Zn 铁氧体薄膜高频性能的影响 | 第43-52页 |
| ·薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·薄膜的物相结构及微形貌 | 第44-47页 |
| ·薄膜的静态磁性能 | 第47-49页 |
| ·薄膜的高频磁性能 | 第49-52页 |
| 第四章 ZnFe_2O_4缓冲层对 Ni-Zn 铁氧体薄膜性能的影响 | 第52-57页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·薄膜的物相及微观结构 | 第53-55页 |
| ·ZnFe_2O_4铁氧体薄膜物相结构 | 第53-54页 |
| ·Ni-Zn/ZnFe_2O_4/Si(100)复合铁氧体薄膜物相及微观结构 | 第54-55页 |
| ·复合薄膜的静态磁性能 | 第55-56页 |
| ·复合薄膜的高频磁性能 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第64-65页 |
