摘要 | 第1-10页 |
ABSTRACT | 第10-13页 |
第一章 综述 | 第13-41页 |
·引言 | 第13-14页 |
·聚噻吩类光电材料的研究进展 | 第14-21页 |
·聚噻吩衍生物在发光器件方面的应用研究 | 第15-19页 |
·聚噻吩衍生物在光伏电池方面的应用研究 | 第19-20页 |
·聚噻吩衍生物在有机场效应管(OFET)方面的应用研究 | 第20-21页 |
·聚噻吩衍生物的主要合成方法 | 第21-27页 |
·化学氧化法 | 第21-22页 |
·有机金属催化的脱卤缩合法 | 第22-23页 |
·Suzuki法 | 第23-25页 |
·Stille法 | 第25-26页 |
·电化学聚合法 | 第26-27页 |
·纳米聚合物材料 | 第27-32页 |
·有机纳米发光材料的研究进展 | 第27-28页 |
·纳米聚合物的制备 | 第28-32页 |
·分子取向及研究方法 | 第32-34页 |
·分子取向 | 第32-33页 |
·研究方法 | 第33-34页 |
·选题背景及研究内容 | 第34-35页 |
·选题背景 | 第34页 |
·研究内容 | 第34-35页 |
参考文献 | 第35-41页 |
第二章 基本理论与实验方法 | 第41-55页 |
·电化学聚合方法与原理 | 第41-47页 |
·电化学聚合原理及沉积过程 | 第41-43页 |
·电化学聚合方法 | 第43-46页 |
·电化学聚合的条件 | 第46-47页 |
·NEXAFS基本原理 | 第47-53页 |
·NEXAFS的产生 | 第48-50页 |
·角分辨NEXAFS | 第50-53页 |
·NEXAFS谱的测量方法 | 第53页 |
参考文献 | 第53-55页 |
第三章 聚烷氧基苯取代噻吩的合成及发光性质的研究 | 第55-69页 |
·引言 | 第55页 |
·实验部分 | 第55-60页 |
·实验药品 | 第55-56页 |
·实验仪器 | 第56-57页 |
·3-(2-甲氧基苯)噻吩的合成 | 第57-58页 |
·3-(2-甲氧基苯)噻吩单体的后处理 | 第58页 |
·聚3-(2-甲氧基苯)噻吩的合成 | 第58-59页 |
·产物的结构表征 | 第59-60页 |
·产物性能的测试 | 第60页 |
·结果与讨论 | 第60-68页 |
·产物结构分析 | 第60-63页 |
·热重分析 | 第63-64页 |
·紫外可见吸收 | 第64-65页 |
·光致发光光谱 | 第65-67页 |
·XRD | 第67-68页 |
本章小结 | 第68页 |
参考文献 | 第68-69页 |
第四章 聚噻吩衍生物纳米线阵列的制备及其发光特性 | 第69-95页 |
·引言 | 第69-70页 |
·实验部分 | 第70-76页 |
·材料与试剂 | 第70-71页 |
·仪器与设备 | 第71页 |
·AAO的制备 | 第71-72页 |
·聚合物纳米线的制备 | 第72-75页 |
·测试样品的制备与表征 | 第75-76页 |
·结果与讨论 | 第76-92页 |
·模板AAO的形貌 | 第76-77页 |
·聚合物纳米线的形貌 | 第77-79页 |
·PMP-Th纳米线的化学结构 | 第79-80页 |
·PMP-Th/AAO体系的紫外可见吸收谱 | 第80-81页 |
·PMP-Th在不同孔径的AAO中的光致发光特性 | 第81-83页 |
·PMP-Th纳米线在草酸AAO中的发光机理及过程 | 第83-86页 |
·PMP-Th纳米线在不同介质中制得的AAO模板中的光学特性 | 第86-89页 |
·PBr-Th纳米线在不同介质中制得的AAO模板中的光学特性 | 第89-92页 |
本章小结 | 第92-93页 |
参考文献 | 第93-95页 |
第五章 聚噻吩衍生物的结构及在金属表面分子取向的NEXAFS研究 | 第95-107页 |
·引言 | 第95-96页 |
·实验部分 | 第96-99页 |
·试剂与仪器 | 第96页 |
·样品的制备 | 第96-98页 |
·NEXAFS | 第98-99页 |
·结果与讨论 | 第99-104页 |
·取代基对电子结构的影响 | 第99-101页 |
·分子取向 | 第101-104页 |
本章小结 | 第104页 |
参考文献 | 第104-107页 |
致谢 | 第107-108页 |
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第108页 |