| 中文摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-35页 |
| ·固相萃取技术进展 | 第11页 |
| ·固相萃取的基本原理 | 第11页 |
| ·固相萃取柱的构成 | 第11-13页 |
| ·固相萃取的特点 | 第13页 |
| ·固相萃取的分离模式 | 第13-14页 |
| ·正相吸附 | 第13页 |
| ·反相吸附 | 第13-14页 |
| ·离子交换吸附 | 第14页 |
| ·固相萃取技术的应用 | 第14页 |
| ·固相萃取材料 | 第14-30页 |
| ·硅胶 | 第14-19页 |
| ·纳米二氧化硅 | 第19-23页 |
| ·分子印迹聚合物 | 第23-30页 |
| ·选题思路 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-35页 |
| 第二章 锆离子硅胶表面印迹聚合物的制备及其分离富集性能研究 | 第35-48页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·实验部分 | 第36-38页 |
| ·仪器装置 | 第36页 |
| ·试剂 | 第36-37页 |
| ·离子印迹聚合物的制备 | 第37页 |
| ·静态吸附试验 | 第37页 |
| ·动态吸附试验 | 第37-38页 |
| ·吸附常数计算 | 第38页 |
| ·试样的制备 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-44页 |
| ·吸附剂的制备 | 第38-39页 |
| ·红外表征 | 第39-40页 |
| ·富集酸度的影响 | 第40页 |
| ·洗脱剂的选择 | 第40页 |
| ·静态吸附容量 | 第40-41页 |
| ·Zr(IV)印迹聚合物的选择性 | 第41-42页 |
| ·流速的影响 | 第42页 |
| ·最大试样体积和富集因子 | 第42页 |
| ·共存离子的影响 | 第42页 |
| ·方法的检出限和精密度 | 第42-43页 |
| ·实际样品分析 | 第43页 |
| ·方法的比较 | 第43-44页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 第三章 邻苯二甲酸酐修饰的纳米SiO_2对铅离子的选择性吸附 | 第48-59页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·实验部分 | 第49-52页 |
| ·仪器装置 | 第49页 |
| ·试剂 | 第49-50页 |
| ·纳米SiO_2的制备 | 第50页 |
| ·纳米SiO_2的修饰 | 第50页 |
| ·静态吸附试验 | 第50-51页 |
| ·动态吸附试验 | 第51页 |
| ·试样的制备 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-55页 |
| ·纳米SiO_2修饰前后的红外光谱 | 第52页 |
| ·pH值对吸附的影响 | 第52页 |
| ·振荡时间的影响 | 第52-53页 |
| ·萃取流速优化 | 第53页 |
| ·金属离子的洗脱 | 第53-54页 |
| ·静态吸附容量 | 第54页 |
| ·最大试样体积的影响 | 第54-55页 |
| ·共存离子的影响 | 第55页 |
| ·方法的检出限和精密度 | 第55页 |
| ·实际样品分析 | 第55页 |
| ·结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第四章 多功能修饰的硅胶吸附剂的制备及对Cr(III)、Cu(II)和 Hg(II)的富集分离 | 第59-67页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·实验部分 | 第59-62页 |
| ·仪器装置 | 第59-60页 |
| ·试剂和标准 | 第60页 |
| ·吸附剂的合成 | 第60-61页 |
| ·分析程序 | 第61-62页 |
| ·静态吸附试验 | 第61页 |
| ·动态吸附试验 | 第61-62页 |
| ·样品的制备 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-65页 |
| ·富集酸度的影响 | 第62-63页 |
| ·富集流速的影响 | 第63页 |
| ·洗脱条件的选择 | 第63页 |
| ·共存离子的影响 | 第63-64页 |
| ·饱和吸附容量 | 第64页 |
| ·实际样品分析 | 第64-65页 |
| ·结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 在读期间的论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
